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2020年 特許登録件数・出願公開件数

12月2日(水) 更新

日本国 特許出願・特許登録 統計データ

特許ランキング

12月2日(水) 更新

特許取得件数(2020年登録分)

1位キヤノン株式会社3524件 変わらず 前年 1位
2位三菱電機株式会社3404件 変わらず 前年 2位
3位パナソニックIPマネジメ..2479件 変わらず 前年 3位
4位トヨタ自動車株式会社2085件 アップ 前年 5位
5位株式会社デンソー1749件 ダウン 前年 4位

特許出願件数(2020年公開分)

1位キヤノン株式会社6226件 変わらず 前年 1位
2位トヨタ自動車株式会社5445件 変わらず 前年 2位
3位パナソニックIPマネジメ..4050件 変わらず 前年 3位
4位三菱電機株式会社3174件 変わらず 前年 4位
5位株式会社三洋物産2501件 アップ 前年 6位

注目企業  - 出願件数上昇中の企業をピックアップ -

12月2日 更新

日本たばこ産業株式会社

再表2019-82282 (11月26日公開)
エアロゾル生成装置
再表2019-92889 (11月26日公開)
非燃焼型香味吸引器用の回路基板、及び非燃焼型香味吸引器
特開2020-189855 (11月26日公開)
ピラゾール−アミド化合物およびその医薬用途
再表2019-82281 (11月19日公開)
エアロゾル生成装置、エアロゾル生成装置の制御方法及び当該方法をプロセッサに実行させるためのプログラム

大学特許  - 最新の大学特許をピックアップ -

12月2日 更新

国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学

特開2020-189811 (11月26日公開)
ゲル組成物及びゲル乾燥物
特開2020-158373 (10月1日公開)
グラフェンナノリボン、及びその製造方法、並びに電子装置
特開2020-138945 (9月3日公開)
シクラセン前駆体およびその製造方法、並びに、ヘテロシクラセン前駆体およびその製造方法
特開2020-139084 (9月3日公開)
化合物、ナノリボン及び半導体装置

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2020.12.2 Wed
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2020  12  

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30日2021年
1月 1日(金)

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2月2021年
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