特開2016-195126IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

例えば、半導体モジュールなどを基板等の部材に接合するために用いられる接合用組成物、並びに該接合用組成物を用いた接合構造体及び接合構造体の製造方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】接合後に第1,第2の接合対象部材の接合信頼性を高め、更に第1,第2の接合対象部材間の間隔を高精度に制御できる接合用組成物及び接合構造体を提供する。
【解決手段】本発明に係る接合用組成物は、第1の接合対象部材2と第2の接合対象部材3,4とを金属原子含有粒子の焼結物によって接合するために用いられる。本発明に係る接合用組成物は、金属原子含有粒子を含む接合材料と、粒子径のCV値が10%以下である導電性粒子21とを含有する。導電性粒子21は、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電層とを有する。
【選択図】図1

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献2に記載のような従来の接合材料では、該接合材料により接合された部材間の間隔にばらつきが生じることがある。すなわち、接合材料により形成された接合部の厚みのばらつきが生じることがある。従って、従来の接合材料を用いた半導体装置などの電子部品の信頼性が低くなるという問題がある。 本発明の目的は、第1,第2の接合対象部材を接合するために用いられ、接合後に、該第1,第2の接合対象部材の接合信頼性を高め、更に該第1,第2の接合対象部材間の間隔を高精度に制御できる接合用組成物、並びに該接合用組成物を用いた接合構造体及び接合構造体の製造方法を提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の広い局面によれば、第1,第2の接合対象部材を接合するために用いられる接合用組成物であって、金属原子含有粒子を含む接合材料と、粒子径のCV値が10%以下である導電性粒子とを含有する、接合用組成物が提供される。
【発明の効果】
本発明に係る接合用組成物は、金属原子含有粒子を含む接合材料と、粒子径のCV値が10%以下である導電性粒子とを含有するので、本発明に係る接合用組成物を用いて第1,第2の接合対象部材を接合したときに、第1,第2の接合対象部材の接合信頼性を高め、更に該第1,第2の接合対象部材間の間隔を高精度に制御できる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、本発明の一接合用組成物を用いた接合構造体を模式的に示す断面図である。

【図2】図2は、本発明の一接合用組成物に含まれている導電性粒子を示す断面図である。

【図3】図3は、図2に示す導電性粒子の変形例を示す断面図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1…接合構造体   2…第1の接合対象部材   2a…第1の表面   2b…第2の表面   3,4…第2の接合対象部材   5,6…接合部   7,8…ヒートシンク   11,12…焼結物   21…導電性粒子   22…基材粒子   22a…表面   23…導電層   31…導電性粒子   32…導電層   32A…第1の導電層   32B…第2の導電層

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