特開 2016-224044出願番号 特願 2016-99052
計測装置
出願人 キヤノン株式会社（識別番号 1007）
2026年 特許公開件数ランキング 3位 4,125件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 2位 2,523件（※）
公報発行日 2016年12月28
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-A-2016-224044 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
被検物の形状を計測する計測装置
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】光を効率的に使用するために有利な計測装置を提供する。【解決手段】パターン光を用いて被検物の形状を計測する計測装置１００は、光を放射する発光部１１ａと光を反射する反射部１１ｂとを含む構造を有する光源１１と、光を透過する透過領域および光を反射する反射領域が周期的に配列されたパターン領域を有し、パターン光を生成するマスク１３と、光源と前記マスクとの間に配置される光学系１２と、パターン光が照射された被検物４を撮像する撮像部２と、撮像部で得られた画像に基づいて被検物の形状を求める処理部３と、を含み、光源から射出されて光学系を介してマスクの反射領域に入射した光が、反射領域で反射されて光学系を介して光源に戻り、光源の反射部で反射されて光学系を介してマスクの透過領域に入射するように、光源、光学系およびマスクが配置されている。
【選択図】図１
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
パターン投影法を用いた計測装置では、マスクに照射される光の多くは、マスクを透過しないため、マスクのパターンを被検物に投影するために使用されずに無駄になっていた。したがって、計測装置では、マスクに照射される光を、マスクのパターンを被検物に投影するために効率よく使用することが望まれている。 そこで、本発明は、光を効率的に使用するために有利な計測装置を提供することを目的とする。課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、パターン光を用いて被検物の形状を計測する計測装置であって、光を放射する発光部と光を反射する反射部とを含む構造を有する光源と、光を透過する透過領域および光を反射する反射領域が周期的に配列されたパターン領域を有し、前記パターン光を生成するマスクと、前記光源と前記マスクとの間に配置される光学系と、前記パターン光が照射された前記被検物を撮像・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、例えば、光を効率的に使用するために有利な計測装置を提供することができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】第１実施形態の計測装置を示す概略図である。
【図2】光源の構成の一例を示す図である。
【図3】マスクに形成されたパターンの一例を示す図である。
【図4】第１実施形態の照射部の構成を示す図である。
【図5】マスクに入射する光の光軸とマスクの透過領域との位置関係を示す図である。
【図6】第２実施形態の照射部の構成を示す図である。
【図7】マスクに入射する光の光軸とマスクの透過領域との位置関係を示す図である。
【図8】第３実施形態の照射部の構成を示す図である。
【図9】計測装置とロボットアームを含む制御システムを示す図である。
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
１：照射部、２：撮像部、３：処理部、４：被検体、１１：光源、１２：光学系、１３：マスク、１４：投影部、１００：計測装置
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