特開2016-224174IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

本明細書で開示される技術は、パネル面内の一部に遮光部を有する表示パネル用基板の製造方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】製造コストの低減化を図りながら、所望する外形形状の表示パネル用基板を製造すること。
【解決手段】遮光部を有する表示パネル用基板の製造方法であって、基板20A上に遮光性を有するネガ型のレジスト膜RF1を形成するレジスト膜形成工程と、レジスト膜形成工程の後に、少なくとも遮光部のパターンに応じたパターンを有するフォトマスクを介してレジスト膜RF1の一部を選択的に露光する第1露光工程と、レジスト膜形成工程の後に、表示パネル用基板の外形形状に沿ってレジスト膜RF1に光を走査させつつ照射することで、レジスト膜RF1の一部を選択的に露光する第2露光工程と、第1露光工程及び第2露光工程の後に、レジスト膜RF1を現像することで、レジスト膜RF1のうち第1露光工程及び第2露光工程で露光されなかった部分を除去して基板20A上にレジスト膜RF1からなる遮光部のパターンを形成する現像工程と、を備える。
【選択図】図10

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、表示装置を構成する表示パネル用基板は、平面視における外形形状が長方形状や正方形状であるものが一般的であるが、近年では、表示パネルの端縁部の大部分を加工することが可能となり、平面視における外形形状が半円形状や台形形状のもの等、様々な外形形状をなすものが製造されている。 このように表示パネル用基板の外形形状が異なると、表示パネル用基板の製造過程において、その外形形状に応じた形でレジスト膜等をパターニングするために、異なる外形形状毎にフォトマスクを用意する必要がある。しかしながら、フォトマスクは非常に高価であるため、表示パネル用基板の外形形状が異なる毎にフォトマスクを別途用意すると、表示パネル用基板の製造コストが増大する。 本明細書で開示される技術は、の課題に鑑みて創作されたものであって、製造コストの低減化を図りながら、所望する外形形状の表示パネル用基板を製造することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本明細書で開示される技術は、パネル面内の一部に遮光部を有する表示パネル用基板の製造方法であって、基板上に遮光性を有するネガ型のレジスト膜を形成するレジスト膜形成工程と、前記レジスト膜形成工程の後に、少なくとも前記遮光部のパターンに応じたパターンを有するフォトマスクを介して前記レジスト膜の一部を選択的に露光する第1露光工程と、前記レジスト膜形成工程の後に、前記表示パネル用基板の外形形状に沿って・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本明細書で開示される技術によれば、製造コストの低減化を図りながら、所望する外形形状の表示パネル用基板を製造することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】実施形態1に係る液晶パネルの概略平面図

【図2】図1におけるII−II断面の断面構成であって、液晶パネルの概略断面図

【図3】液晶パネルを構成するアレイ基板において、表示領域と額縁領域との境界部近傍の平面構成を示す平面図

【図4】第2露光領域と表示領域との境界部近傍において、液晶パネルをカラーフィルタ基板側から視た平面図

【図5】図4におけるV−V断面の断面構成であって、液晶パネルの概略断面図

【図6】カラーフィルタ基板の製造手順を説明するためのフロー図

【図7】カラーフィルタ基板の製造工程(1)を示す平面図

【図8】カラーフィルタ基板の製造工程(2)を示す平面図

【図9】カラーフィルタ基板の製造工程(3)を示す平面図

【図10】カラーフィルタ基板の製造工程(4)を示す平面図

【図11】カラーフィルタ基板の製造工程(5)を示す平面図

【図12】実施形態2に係る液晶パネルの概略平面図

【図13】実施形態2に係るカラーフィルタ基板の製造工程を示す平面図

選択図 図10出願人が指定した本件の代表的な図

10,110,210:液晶パネル、11:斜辺、20:カラーフィルタ基板、20A,30A:ガラス基板、22:カラーフィルタ、22R:赤色の着色部、22G:緑色の着色部、22B:青色の着色部、23:遮光部、23T:テーパ部、30:アレイ基板、32:TFT、32G:ゲート電極、32S:ソース電極、32D:ドレイン電極、34:画素電極、35:共通電極、36G:ゲート配線、36S:ソース配線、211:曲線部分、A1:表示領域、A2:非表示領域、A3:額縁領域、A4:第2露光領域、A5:遮光部のパターンによって囲まれる領域、CH1:コンタクトホール、RF1:レジスト膜、P1:(遮光部の)パターン

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