特許5750436IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

親水化効果及び帯電防止効果が大きく、低コストで製造できるコーティング可能な修飾金属酸化物ゾルに関する。さらに詳しくは親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電性、イオン(プロトン)伝導性コーティング剤として好適な修飾金属酸化物ゾル

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかし、従来の、スルホン酸基を持つビニル化合物とチオール基を持つ化合物のエン−チオール反応により得られる化合物から調整される表面親水化剤は原料であるビニル化合物のコストが高い為、結果としてコストが高いという問題がある。また、CMP研磨剤用途としてスルホン酸基修飾水性アニオンシリカゾルはスルホン酸基の含有量が少量のため、帯電防止性能は不十分であり、またコーティング膜としての強度が不十分である。本発明の目的は、親水化剤、帯電防止剤、親水性コーティング組成物、抗菌剤、導電性、イオン(プロトン)伝導性コーティング剤として好適な修飾金属酸化物ゾルを提供することである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者らは、課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、本発明に至った。即ち、本発明は、下記式(1)で表される官能基で金属酸化物ゾル1gあたり0.55mmol以上修飾されたことを特徴とする修飾金属酸化物ゾルである。 MOS(=O)2−R1−Si(CH3)n(−O−)3−n (1) {式中Mは水素イオン、炭素数1〜4のアルキル基、金属イオン又はアンモニウム(NR2・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、親水化効果及び帯電防止効果が大きく、低コストで製造でき、コーティング可能な修飾金属酸化物ゾルを提供することが出来る。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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