発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献１の真空洗浄装置によれば、乾燥工程において、蒸気洗浄・乾燥室を真空ポンプで真空引きして減圧している。このとき、蒸発によって１００倍以上の体積に気化した気体を、従来のメカニカルな回転駆動式真空ポンプで排気乾燥するのは容易ではない。また、乾燥性を高めるために更に減圧すれば、さらに気体が膨張して排気時間がかかる。そのため、この従来の乾燥方法による乾燥工程には長時間を要する。すなわち、安定した洗浄品質かつ生産性を高める乾燥工程において、その時間の短縮化が望まれている。 本発明は、ワークの乾燥に要する時間を短縮して全体の処理能力を向上することができる真空洗浄装置および真空洗浄方法を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、ワークの乾燥に要する時間を短縮して全体の処理能力を向上することができる。