【図1】図１は、本発明の一実施の形態に係る電子顕微鏡システムの基本的な特徴と機能を概略的に示している。

【図2a】図２ａは、図１の電子顕微鏡システムに使用される単一の多孔プレートを備えた多孔装置の断面を概略的に示している。

【図2b】図２ｂは、図１の電子顕微鏡システムに使用される４つの多孔プレートを備えた多孔装置の断面を概略的に示している。

【図2c】図２ｃは、図１の電子顕微鏡システムに使用される３つの多孔プレートを備えた多孔装置の断面を概略的に示している。

【図2d】図２ｄは、図１の電子顕微鏡システムに使用される、図２ｃに示される多孔装置の変形例を示している。

【図3】図３は、多孔装置を照射し、多孔装置によって生成された電子の小ビームを操作するための電子光学部品を示す概略図である。

【図4】図４は、図１の電子顕微鏡システムに使用される一次電子小ビーム発生装置の一例を示している。

【図5】図５は、図４に示されるような装置によって与えられるビーム経路の複数の物理的特性を示している。

【図6】図６は、図１の電子顕微鏡システムに使用される一次電子小ビーム発生装置の一例を示している。

【図7】図７は、多孔プレートに形成される開孔のアレイパターンを示している。

【図8】図８は、図７に示されるような開孔のパターン配列によって引き起こされる多重極効果を補償するための付加的な形状的特徴を有する開孔の形状の詳細図である。

【図9】図９は、多孔プレートに設けられた、開孔及び電界補正開孔の配列を示している。

【図10】図１０は、図９に示されるようなプレートの、図９に示される線Ｘ−Ｘに沿った断面である。

【図11】図１１は、開孔の六角形のアレイパターンを示している。

【図12】図１２は、一次電子ビームスポットのゆがんだパターンを示している。

【図13】図１３は、図１２に示されるようなゆがみを補償するための開孔配列を示している。

【図14】図１４は、非点収差によってゆがめられた一次電子ビームスポットパターンを示している。

【図15】図１５は、図１４に示されるような非点収差によるゆがみを補償するための開孔パターンの平面図である。

【図16】図１６は、物体に焦点面を結像する際に使用される電子光学部品によって引き起こされる像面湾曲の効果を示している。

【図17】図１７は、図１６に示されるような像面湾曲を補償するために適した多孔装置を示している。

【図18】図１８は、像面湾曲を補償するための多孔パターンの立面図である。

【図19】図１９は、像面湾曲を補償するための、さらに別の多孔装置を示している。

【図20a】図２０ａは、像面湾曲を補償するための、さらに別の多孔装置を示している。

【図20b】図２０ｂは、図２０ａの多孔装置において、多孔プレートの上流側の電界がほぼゼロである場合を示している。

【図20c】図２０ｃは、像面湾曲を補償するための、さらに別の多孔装置を示している。

【図20d】図２０ｄは、図２０ｃの多孔装置において、多孔プレートの下流側にほとんど消えそうな電界が生成される場合を示している。

【図20e】図２０ｅは、像面湾曲を補償するための、さらに別の多孔装置を示している。

【図21】図２１は、一次電子ビーム経路の概略図である。

【図22】図２２は、図１に示されるような電子顕微鏡システムに対物装置と共に使用されるビームスプリッタ／コンバイナ装置を概略的に示している。

【図23】図２３は、本発明の一実施の形態に係る電子リソグラフィシステムを示している。