特許6258797IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

半導体製造工程から排出される排ガスに含まれる有害成分を燃焼させて除去するための燃焼式浄化装置に関する。さらに詳細には、半導体製造工程から排出される有害成分を、火炎及び酸素の存在下、高温で接触させ、燃焼することにより無害な物質あるいは容易に無害化できる物質に変えるための燃焼式浄化装置に関するものである。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の一例を示す縦断面の構成図

【図2】図1におけるa−a’断面図

【図3】本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の図1以外の一例を示す縦断面の構成図

【図4】図3におけるb−b’断面図

【図5】本発明の排ガスの燃焼式浄化装置の側面壁の例を示す部分拡大断面図

【図6】本発明の排ガスの燃焼式浄化装置に水槽及びスクラバーの設備を結合した浄化装置の例を示す縦断面の構成図

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 燃焼室   2 火炎を燃焼室へ導入するノズル   3 排ガスを燃焼室へ導入するノズル   4 側面壁   4’通気性のセラミック壁   4”通気性の金属壁   5 酸素含有ガス流路   6 酸素含有ガス導入口   7 排出口   8 スプレーノズル   9 孔   10 線状の間隙   11 格子窓状の間隙   12 冷却配管   13 スプレーノズル   14 フローメーター   15 ポンプ   16 排ガスの燃焼式浄化装置とスクラバー設備間の配管   17 水槽   18 排水管   19 多孔板   20 充填材   21 デミスター   22 処理後のガスを外部へ排出する排出口

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