発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ここにおいて、本発明は、上述せる如き事情を背景にして為されたものであって、その解決課題とするところは、基板表面以外へのプラズマＣＶＤ膜の付着を可及的に抑制しつつ、プラズマＣＶＤ膜を、基材表面に対して、より効率的且つ低コストに積層形成可能なプラズマＣＶＤ装置を提供することにある。また、本発明は、基板表面以外へのプラズマＣＶＤ膜の付着を可及的に抑制しつつ、プラズマＣＶＤ膜を、基材表面に対して、より効率的且つ低コストに積層形成可能なプラズマＣＶＤ膜の形成方法を提供することも、その解決課題とする。更に、本発明は、基材表面にプラズマＣＶＤ膜が積層形成された積層品を有利に製造し得る方法と、ポリカーボネート製の樹脂成形品からなる樹脂基材の表面に、アンダーコート層と珪素化合物からなるプラズマＣＶＤ膜が更に積層形成されてなる樹脂製品の有利な製造方法を提供することをも、また、その解決課題とするものである。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

すなわち、第一発明に係るプラズマＣＶＤ装置は、誘導結合型プラズマトーチユニットを有し、この誘導結合型プラズマトーチユニットのトーチ管内で発生したプラズマガスが、吹出口を通じて、反応室内に吹き出されるようになっている。それ故、そのようなプラズマガスが、反応室内に収容される基板の表面上に向かって吹き出されるようにすれば、反応室内全体へのプラズマガスの分散が有利に抑制されて、プラズマＣＶＤ法による原料ガスのプラズマガスと反応ガスのプラズマガスとの反応により生成した生成物が、基板表面に集中的に堆積するようになる。そして、それにより、反応室の内面や基板を支持する支持部材等への生成物の付着が可及的に防止され得ることとなる。 また、第一発明に係るプラズマＣＶＤ装置においては、原料ガスと材料ガスのうちの何れか一方が、トーチ用ガス供給手段によって誘導結合型プラズマトーチユニットのトーチ管内に供給されて、プラズマ化されるようになっている。更に、原料ガスと材料ガスのうちの何れか他方が、反応室用ガス供給手段によって反応室内に供給されて、原料ガスと材料ガスのうちの何れか一方が分解・プラズマ化されたプラズマガスと接触することでプラズマ化されるようになっている。このため、前記した従来のトーチ型プラズマＣＶＤ装置とは異なって、原料ガスと材料ガスとを分解、プラズマ化するために、それらのガスとは別の不活性ガス等の余分なガスが何等使用されない。そして、それにより、不活性ガスの使用に起因した材料費や設備費の高騰及び成膜効率の低下の問題等が、何れも、効果的に解消され得る。 しかも、誘導結合型プラズマトーチユニットが、高周波電源手段から誘導コイルへの通電によりトーチ管内に生じる高周波電磁界によって、プラズマガスを発生させるものであるため、誘導結合型プラズマトーチユニットには、電極が何等設けられていない。それ故、プラズマガスの発生時での電極の熱溶解や損傷により、原料ガスと材料ガスのプラズマ化が不安定となることも皆無とされて、それら原料ガスと反応ガスのプラズマガスを、常に安定的に発生させることができる。 従って、かくの如き第一発明に係るプラズマＣＶＤ装置を用いれば、基板表面以外へのプラズマＣＶＤ膜の付着を可及的に抑制しつつ、プラズマＣＶＤ膜を、基材表面に対して、より効率的且つ低コストに形成することができるのである。 第二発明に係るプラズマＣＶＤ装置にあっても、第一発明に従うプラズマＣＶＤ装置において奏される作用・効果と実質的に同一の作用・効果が、有効に享受され得ることとなる。 第三発明に係るプラズマＣＶＤ膜の形成方法と第四発明に係るプラズマＣＶＤ膜の形成方法にあっても、第一発明に従うプラズマＣＶＤ装置において奏される作用・効果と実質的に同一の作用・効果が、有効に享受され得る。 第五発明に係る積層品の製造方法によれば、プラズマＣＶＤ膜が、基材表面に対して、より効率的且つ低コストに形成され得ることによって、目的とする積層品の生産性の向上と生産コストの低下とが、極めて効果的に実現され得るのである。 第六発明に係る樹脂製品の製造方法と第七発明に係る樹脂製品の製造方法によれば、プラズマＣＶＤ膜が、基材表面に対して、より効率的且つ低コストに形成され得ることによって、目的とする樹脂製品の生産性の向上と生産コストの低下とが、極めて効果的に実現され得るのである。