2026年 特許公開件数ランキング 2766位 7件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 2075位 9件(※)
2026年 特許公開件数ランキング 26616位 0件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 21984位 0件(※)
2026年 特許公開件数ランキング 26616位 0件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 21984位 0件(※)
公報発行日 2018年3月14
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-B9-6293656 ログイン済みの方はこのURLへ
[この特許公報を共有したい場合]あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
【図1】本発明の第1実施形態のエマルション調製用デバイスを利用した調製器具の全体側面図である。
【図2】図1のデバイスの断面側面図である。
【図3】図1のIII矢視部分図であり、第1メッシュ部を示す図である。
【図4】本発明の第2実施形態のエマルション調製用デバイスを利用した調製器具の全体側面図である。
【図5】図4のデバイスの側面図である。
【図6】図4のデバイスの断面側面図である。
【図7】図4のデバイスの透視側面図である。
【図8】第1メッシュ部の変形例を示す図である。
【図9】第1メッシュ部の別の変形例を示す図である。
【図10】エマルション確認テストA、Bにおけるドロップテストを示す図である。
【図11】摺動抵抗評価テストA、Bの方法の一工程を示す図である。
【図12】異物評価テストの方法の一工程を示す図である。
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
[広告欄]
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります