特許6324324IP Force 特許公報全文掲載

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撮像装置に関するものであって、特に、パッシベーション膜の剥離を防止するダミーパターンを有する撮像装置に関するものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、ダミーパターンを有する撮像装置を提供し、パッシベーション膜の剥離を防止することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の実施態様によると、撮像装置の各種ダミーパターン構造設計は、テープとダミーパターン上に設置されたパッシベーション膜間の接触面積を減少させることができる。よって、テープが除去されるとき、本発明のダミーパターン構造設計により、パッシベーション膜剥離問題が克服される。
【発明の効果】
本発明のダミーパターン設計により、パッシベーション膜剥離問題を克服し、よって、撮像装置の歩留まりが増加する。さらに、ダミーパターンは、マイクロレンズ構造と同じ材料層で形成される。よって、撮像装置の製造コストが減少する。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1A】ダミーパターンを有さず、テープが取り付けられた撮像装置の部分断面図である。

【図1B】テープ除去後の図１Ａの撮像装置の部分断面図である。

【図2】本発明の実施形態によるダミーパターンを有し、テープが取り付けられた撮像装置の部分断面図である。

【図3】本発明の複数の実施形態による撮像装置の平面図である。

【図4】本発明の実施形態によるダミーパターンを有し、テープが取り付けられた撮像装置の部分断面図である。

【図5】本発明の実施形態によるダミーパターンを有し、テープが取り付けられた撮像装置の部分断面図である。

１０、２０〜撮像装置　　 １００〜基板　　 １０２〜光電変換素子　　 １０４〜仕切り壁材料層　　 １０４Ｐ〜仕切り壁　　 １０４Ｅ〜仕切り壁材料層の一部分　　 １０６〜平坦化層　　 １０８〜カラーフィルター層　　 １０８Ｒ、１０８Ｇ、１０８Ｂ〜カラーフィルター部分　　 １０８Ｅ〜延長部分　　 １１０〜マイクロレンズ材料層　　 １１０Ｍ〜マイクロレンズ素子　　 １１２〜パッシベーション膜　　 １１２Ｐ〜パッシベーション膜の一部分　　 １１４〜突起素子　　 １２０〜テープ　　 ＭＬ〜マイクロレンズ構造　　 ＤＰ〜ダミーパターン　　 Ａ〜アクティブ領域　　 Ｂ〜周辺領域

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