特許6398371IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

駆動装置、工作機械、及び半導体製造装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

例えば、スライダに不慮の負荷が作用したり、軸受装置の機能が損なわれたりすると、スライダが所期の姿勢で軸受装置に支持されない可能性がある。例えば、スライダが傾斜して差動排気シール装置と接触すると、差動排気シール装置のシール性能が低下する可能性がある。その結果、その駆動装置を備える工作機械及び半導体製造装置の性能が低下する可能性がある。 本発明の態様は、スライダが所期の姿勢で軸受装置に支持されない状態になっても、シール性能の低下が抑制される駆動装置を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、性能の低下が抑制される工作機械及び半導体製造装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の第1の態様は、プロセス室のハウジングに設けられた開口に配置されるスライダと、前記プロセス室の外側に設けられ前記スライダを駆動可能なアクチュエータと、前記スライダの周囲に配置される軸受面を有し、前記スライダの外面と前記軸受面とが間隙を介して対向する状態で所定軸と平行な直進方向及び前記所定軸と平行な中心軸を中心とする回転方向の少なくとも一方に前記スライダを移動可能に支持する軸受装置と、前・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明の態様によれば、シール性能の低下が抑制される駆動装置が提供される。また、本発明の態様によれば、性能の低下が抑制される工作機械及び半導体製造装置が提供される。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、第1プロセス室の一例を模式的に示す斜視図である。

【図2】図2は、第1プロセス室の一例を模式的に示す断面図である。

【図3】図3は、第1駆動装置の一例を示す断面図である。

【図4】図4は、第1駆動装置の一例を示す断面図である。

【図5】図5は、第2駆動装置の一例を示す断面図である。

【図6】図6は、第2駆動装置の一例を示す断面図である。

【図7】図7は、第3駆動装置の動作の一例を示す模式図である。

【図8】図8は、第4プロセス室の一例を模式的に示す斜視図である。

【図9】図9は、第4プロセス室の一例を模式的に示す断面図である。

【図10】図10は、第4駆動装置の一例を示す断面図である。

【図11】図11は、第5半導体製造装置の一例を示す図である。

【図12】図12は、第5測定装置の一例を示す図である。

【図13】図13は、第5工作機械の一例を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 駆動装置   2 ハウジング   2A 開口   2B 開口   3 ステージ   4 スライダ   5 アクチュエータ   6 軸受面   7 軸受装置   8 対向面   8A 第1領域   8B 第2領域   8C 第3領域   8D 第4領域   9 差動排気シール装置   10 外面   11 給気溝   11R 供給流路   12 気体供給装置   13 排気口   13R 排出流路   14 排気溝   15 気体排出装置   16 排気口   20 支持部材   20F フランジ部   30 可動部材   31 ガイドレール   32 スライダ   33 アクチュエータ   40 差動排気シール装置   60 軸受部材   500 半導体製造装置   700 測定装置   800 工作機械   P プロセス室   Q 空間   W ワーク

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