発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献１に開示されている技術は、基本的には熱エネルギーを利用して薄膜を成膜する方法であり、薄膜の成膜に際し加熱処理により溶媒の蒸発や溶質の分解、酸化等の化学反応を進行させる必要があるため、比較的低い温度環境下で薄膜の成膜を行うことは実質的に困難であるという問題点があった。 この発明は問題点を解決するためになされたもので、比較的低い温度環境下で薄膜を成膜することができる成膜装置を得ることを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

請求項１記載の本願発明の成膜装置において、マイクロ波発生器によって反応空間にマイクロ波が導入されるため、溶媒を沸点以下の状態で蒸発させることにより、比較的低温な温度環境下で基板の上面に薄膜を成膜することができる。