発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

の特許文献１記載の成膜装置では、成膜ローラの両端部における皮膜形成を防止するために、一対の成膜ローラの間において、各成膜ローラの両端部を覆う遮蔽部材が設けられている。 この構成では、成膜ローラの軸方向について、成膜が行われる範囲の成膜ローラの金属製の外周面のうち基材が巻き掛けられている部分は、当該成膜ローラの表面が基材に覆われている。しかし、それ以外の部分、すなわち、基材が巻き掛けられていない部分では、基材に接触していないので外部に露出している。このように、金属製の成膜ローラのうち外部に露出している部分では、当該露出している部分とその周囲の部分（例えば、真空チャンバの内壁など）との間の電位差により、異常放電が発生するおそれがある。そのため、成膜作業を継続することができないおそれがある。 本発明は、のような事情に鑑みてなされたものであり、成膜ローラの軸方向についての成膜が行われる範囲において基材が巻き掛けられていない部分において異常放電の発生を防止するプラズマＣＶＤ成膜装置を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

以上説明したように、本発明のプラズマＣＶＤ成膜装置によれば、成膜ローラのうち基材が巻き掛けられている部分に対して当該成膜ローラの回転軸を挟んで反対側に位置する部分、すなわち基材が巻き掛けられていない部分での異常放電の発生を防止することができる。