特許6618403IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

レーザ測定装置

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、二点の鉛直方向の相対変位量を高精度に測定することが目的である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

請求項1の発明は、第一測定位置及び第二測定位置の一方に配置され第一レーザ光を水平方向に射出する第一レーザ光射出装置と、前記第一測定位置及び前記第二測定位置の他方に配置され前記第一レーザ光の受光位置を検知する第一受光部と、を有し、前記第一測定位置と前記第二測定位置との鉛直方向の相対変位量を測定する第一測定部と、第二レーザ光を射出する第二レーザ光射出装置と、前記第二測定位置及び第三測定位置の一方・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明によれば、二点の鉛直方向の相対変位量を高精度に測定することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本発明の第一実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを模式的に示す斜視図である。

【図2】本発明の第一実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示す概略構成図である。

【図3】本発明の第一実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示すブロック図である。

【図4】変位制御機構を示す正面図である。

【図5】制御フローを示すフロー図である。

【図6】A点B点間の鉛直方向の相対変位量のスペクトル振幅値を示すグラフである。

【図7】本発明の第二実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示す概略構成図である。

【図8】本発明の第二実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示すブロック図である。

【図9】本発明の第三実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示す概略構成図である。

【図10】本発明の第三実施形態のレーザ測定装置を用いた除振システムを示すブロック図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

50 レーザ測定装置   51 レーザ測定装置   53 レーザ測定装置   100 第一測定装置(第一測定部の一例)   102 半導体レーザ装置(第一レーザ光射出装置の一例)   104 筒部材   120 位置検出素子(第一受光部の一例)   200 第二測定装置(第二測定部の一例)   202 レーザヘッド(第二レーザ光射出装置の一例)   202A レーザヘッド(第三レーザ光射出装置の一例)   210 反射鏡(反射部材の一例)   210A 反射鏡(反射部材の一例)   220 干渉計(第二受光部の一例)   220A 干渉計(第三受光部の一例)   LA レーザ光(第一レーザ光の一例)   LB1 レーザ光(第二レーザ光の一例)   LAA レーザ光(第一レーザ光の一例)   LAB レーザ光(第一レーザ光の一例)   LBA1 レーザ光(第二レーザ光の一例、第三レーザ光の一例)   LBB1 レーザ光(第二レーザ光の一例)

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