特許6625328IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

物、方法、または、製造方法に関する。または、本発明は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物(コンポジション・オブ・マター)に関する。特に、本発明の一態様は、例えば、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法に関する。特に、本発明の一態様は、半導体装置に関する。特に、本発明の一態様は、ハードウェアの構成を変更することができるプログラマブルロジックデバイスと、プログラマブルロジックデバイスを用いた半導体装置、駆動方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

スイッチング速度が改善すると、LE間の信号伝達速度が向上する。信号伝達速度の向上は、PLDなどの半導体装置の性能を評価する上で重要なポイントである。しかしながら、非特許文献のパストランジスタのブースティング機能を利用した場合であってもスイッチング速度が改善しないことが懸念される。以下、これを説明する。 図10では、LE11と、LE12との間に、第1のスイッチSW11や第2のスイッチSW12を配置した回路構成を示す。第1のスイッチSW11や第2のスイッチSW12をあわせて、スイッチ群SW1と呼ぶことができる。 第1のスイッチSW11は、LE11及びLE12間の導通、非導通を制御する機能を有する。第2のスイッチSW12は、第1のスイッチSW11と同様な構成及び機能を有することができる。これらスイッチについて説明する。 第1のスイッチSW11は、第1のトランジスタM11、第2のトランジスタM12、第3のトランジスタM13、第1の容量C11を有する。第1のトランジスタM11のソース又はドレインの一方は、第2のトランジスタM12のゲートと電気的に接続される。第1のトランジスタM11のソース又はドレインの一方は、第1の容量C11の一方の電極と電気的に接続される。第2のトランジスタM12のソース又はドレインの一方は、第3のトランジスタM13のソース又はドレインの一方と電気的に接続される。第1のトランジスタM11のゲートは、第1の信号線101と電気的に接続される。第1の信号線101から供給される信号を、WL[0]と表記する。WL[0]に基づいて、第1のトランジスタM11が選択される。第3のトランジスタM13のゲートは、第2の信号線102と電気的に接続される。第2の信号線102から供給される信号を、CONTEXT[0]と表記する。CONTEXT[0]に基づいて、第3のトランジスタM13が選択される。信号線とは、これら所望の信号を供給することができる配線である。 第2のスイッチSW12は、第4のトランジスタM14、第5のトランジスタM15、第6のトランジスタM16、第2の容量C12を有する。第4のトランジスタM14のソース又はドレインの一方は、第5のトランジスタM15のゲートと電気的に接続される。第4のトランジスタM14のソース又はドレインの一方は、第2の容量C12の一方の電極と電気的に接続される。第5のトランジスタM15のソース又はドレインの一方は、第6のトランジスタM16のソース又はドレインの一方と電気的に接続される。第4のトランジスタM14のゲートは、第3の信号線103と電気的に接続される。第3の信号線103から供給される信号を、WL[1]と表記する。WL[1]に基づいて、第4のトランジスタM14が選択される。第6のトランジスタM16のゲートは、第4の信号線104と電気的に接続される。第4の信号線104から供給される信号を、CONTEXT[1]と表記する。CONTEXT[1]に基づいて、第6のトランジスタM16が選択される。信号線とは、これら所望の信号を供給することができる配線である。 第1のトランジスタM11と、第4のトランジスタM14とは、互いのソース又はドレインの他方が電気的に接続されている。互いのソース又はドレインの他方は、第5の信号線105と電気的に接続されている。第5の信号線105から供給される信号を、BLと表記する。第1のトランジスタM11が選択されている場合、BLに基づいて、第1のトランジスタM11の先のノードSN11の電位を決めることができる。当該電位は、第1の容量C11によって、保持することができる。また第4のトランジスタM14が選択されている場合、BLに基づいて、第4のトランジスタM14の先のノードSN12の電位を決めることができる。当該電位は、第2の容量C12によって、保持することができる。信号線とは、所望の信号を供給することができる配線である。 第2のトランジスタM12と、第5のトランジスタM15とは、互いのソース又はドレインの他方が電気的に接続されている。互いのソース又はドレインの他方は、LE11の出力側と電気的に接続されている。LE11の出力側の端子をノードND11と表記する。第3のトランジスタM13と、第6のトランジスタM16とは、互いのソース又はドレインの他方が、電気的に接続されている。互いのソース又はドレインの他方は、LE12の入力側と電気的に接続されている。LE12の入力側の端子をノードND12と表記する。 このような回路により、少なくとも、以下の動作を行うことができる。WL[0]により、第1のトランジスタM11の導通、非導通が制御される。WL[1]により、第4のトランジスタM14の導通、非導通が制御される。第1のトランジスタM11を介して、第1の容量C11に、BLに対応するコンフィギュレーションデータが書き込まれる。その後、第1のトランジスタM11が非導通となると、ノードSN11にコンフィギュレーションデータが格納される。 第4のトランジスタM14を介して、第2の容量C12に、BLに対応するコンフィギュレーションデータが書き込まれる。その後、第4のトランジスタM14が非導通となると、ノードSN12にコンフィギュレーションデータが格納される。ノードSN11に格納されたコンフィギュレーションデータに依存して、第2のトランジスタM12の導通、非導通が制御される。ノードSN12に格納されたコンフィギュレーションデータに依存して、第5のトランジスタM15の導通、非導通が制御される。 また、CONTEXT[0]により、第3のトランジスタM13の導通、非導通を制御することで、所望の回路構成を選択することができる。また、CONTEXT[1]により、第6のトランジスタM16の導通、非導通を制御することで、所望の回路構成を選択することができる。 図11に、図10の回路におけるタイミングチャートを示す。図11は、第5の信号線105から供給されるBLのタイミングチャートを示す。図11は、第1の信号線101、第3の信号線103からそれぞれ供給されるWL[0],WL[1]のタイミングチャートを示す。図11は、第2の信号線102から供給されるCONTEXT[0]のタイミングチャートを示す。図11は、第4の信号線104から供給されるCONTEXT[1]のタイミングチャートを示す。 CONTEXT[0]が”H”レベルであり、CONTEXT[1]が”L”レベルの状態を第1のコンフィギュレーションデータを選択するとし、CONTEXT[0]が”L”レベルであり、CONTEXT[1]が”H”レベルの状態を第2のコンフィギュレーションデータを選択すると表記する。第1のコンフィギュレーションデータと、第2のコンフィギュレーションデータとは、いずれか一方しか選択できない。たとえば第1のコンフィギュレーションデータが選択されるときは、第2のコンフィギュレーションデータは非選択である。たとえば第2のコンフィギュレーションデータが選択されるときは、第1のコンフィギュレーションデータは非選択である。 図11において、トランジスタM11、トランジスタM12、トランジスタM13、トランジスタM14、トランジスタM15、トランジスタM16のゲートに印加した際、導通状態となる電位を”H”レベルとして表し、非導通状態となる電位を”L”レベルとして表す。”H”レベルの電位をVDDとし、”L”レベルの電位をGNDとするが、相対的な電位差があればよく、VDDやGNDに限定されるものではない。よって、第1の電位と、第1の電位より低い第2の電位や第1の電位と、第1の電位より高い第2の電位として、表現することができる。 図11において、ノードND11の電位が”L”レベルの間を時刻T0からT1とする。BLを”H”レベルとし、次いでWL[0]を”H”レベルとすることで、ノードSN11及び第1の容量C11を用いて、”H”レベルに相当するコンフィギュレーションデータを書き込むことができる。その後、WL[0]を”L”レベルとし、第1のトランジスタM11を非導通とすることで、ノードSN11及び第1の容量C11を用いて、コンフィギュレーションデータを格納することができる。WL[0]が”L”レベルとなった以降であれば、BLは”H”レベルであっても、”L”レベルであっても、第1のトランジスタM11を非導通とすることができる。ここでは、BLは、”L”レベルとする。 時刻T1にて、第1のコンフィギュレーションデータを選択する。具体的には、CONTEXT[0]を”H”レベルとし、第3のトランジスタM13を導通させる。 また、LE11側のノードND11を”L”レベルの電位から”H”レベルの電位へ変化させることで、第2のトランジスタM12のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN11の電位は、たとえば約2VDDへ昇圧される。第2のトランジスタM12のソース・ゲート間電圧が約2VDDとなり、かつ第3のトランジスタM13は導通しているため、LE12側のノードND12の電位は、速やかに”H”レベルとなる。その結果、昇圧が行われない場合と比較して、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度は向上する。 時刻T2にて、LE11側のノードND11を”H”レベルの電位から”L”レベルの電位へ変化させると、第2のトランジスタM12のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN11の電位はVDDまで降圧される。第2のトランジスタM12のソース・ゲート間電圧がVDDとなり、かつ第3のトランジスタM13は導通しているため、GNDレベルの場合と比較して、ノードND12の電位は速やかに”L”レベルとなる。 図11からわかるように、第1のコンフィギュレーションデータを選択している間、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度は向上し続ける。すなわち、一度、第2のトランジスタM12のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN11の電位が昇圧又は降圧されれば、LE11とLE12間の信号伝達速度は向上し続ける。 次にノードND11の電位が”L”レベルとなる間を時刻T3からT4とする。時刻T3からT4では、BLを”H”レベルとし、WL[1]を”H”レベルとすることで、ノードSN12及び第2の容量C12を用いて、”H”レベルに相当するコンフィギュレーションデータを書き込むことができる。その後、WL[1]を”L”レベルとし、第4のトランジスタM14を非導通とすることで、ノードSN12及び第2の容量C12を用いて、コンフィギュレーションデータを格納することができる。WL[1]が”L”レベルとなった以降であれば、BLは”H”レベルであっても、”L”レベルであっても、第4のトランジスタM14は非導通とすることができる。ここでは、BLは、”L”レベルとする。 時刻T4以降、第1のコンフィギュレーションデータを非選択にし、第2のコンフィギュレーションデータを選択する。具体的には、CONTEXT[0]を”L”レベルとし、第3のトランジスタM13を非導通にさせ、CONTEXT[1]を”H”レベルとし、第6のトランジスタM16を導通させる。 また、LE11側のノードND11を”L”レベルの電位から”H”レベルの電位へ変化させることで、第5のトランジスタM15のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN12の電位は、たとえば約2VDDへ昇圧される。第5のトランジスタM15のソース・ゲート間電圧が約2VDDとなり、かつ第6のトランジスタM16は導通しているため、LE12側のノードND12の電位は、速やかに”H”レベルとなる。その結果、昇圧が行われない場合と比較して、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度が向上する。 時刻T5にて、LE11側のノードND11を”H”レベルの電位から”L”レベルの電位へ変化させると、第5のトランジスタM15のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN12の電位はVDDまで降圧される。第5のトランジスタM15ソース・ゲート間電圧がVDDとなり、かつ第6のトランジスタM16は導通しているため、ノードND12の電位は速やかに”L”レベルとなる。 図11からわかるように、第2のコンフィギュレーションデータを選択している間、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度は向上し続ける。すなわち、一度、第5のトランジスタM15のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN12の電位が昇圧又は降圧されれば、LE11とLE12間の信号伝達速度は向上し続ける。 図12を用いて、図11とは、別の条件を考える。 図12において、ノードND11の電位が”L”レベルの間を時刻T0’からT1’とする。図11と同様に考えることができ、時刻T0’からT1’では、ノードND11の電位が”L”レベルの間に、BLを”H”レベルとし、WL[0]を”H”レベルとすることで、第1の容量C11に”H”レベルに相当するコンフィギュレーションデータを書き込み、その後、WL[0]を”L”レベルとし、BLを”L”レベルとし、第1のトランジスタM11を非導通とすることで、ノードSN11のコンフィギュレーションデータを格納する。 時刻T1’にて、第1のコンフィギュレーションデータを選択する。具体的には、CONTEXT[0]を”H”レベルとし、第3のトランジスタM13を導通させる。 また、LE11側のノードND11を”L”レベルの電位から”H”レベルの電位へ変化させることで、第2のトランジスタM12のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN11の電位は、たとえば約2VDDへ昇圧される。
その結果、図11と同様に、昇圧が行われない場合と比較して、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度は向上する。 時刻T2’にて、LE11側のノードND11を”H”レベルの電位から”L”レベルの電位へ変化させることで、第2のトランジスタM12のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN11の電位はVDDまで降圧される。第2のトランジスタM12のゲート・ソース間電圧がVDDとなるため、ノードND12の電位は速やかに”L”レベルとなる。 次にノードND11の電位が”H”レベルとなっている時刻T3’からT4’とする。時刻T3’からT4’では、ノードND11の電位が”H”レベルの間に、BLを”H”レベルとし、WL[1]を”H”レベルとすることで、ノードSN12及び第2の容量C12を用いて、”H”レベルに相当するコンフィギュレーションデータを書き込むことができる。その後、WL[1]を”L”レベルとし、第4のトランジスタM14を非導通とすることで、ノードSN12及び第2の容量C12を用いて、コンフィギュレーションデータを格納することができる。 時刻T4’以降、第1のコンフィギュレーションデータを非選択にし、第2のコンフィギュレーションデータを選択する。具体的には、CONTEXT[0]を”L”レベルとし、第3のトランジスタM13を非導通にさせ、CONTEXT[1]を”H” レベルとし、第6のトランジスタM16を導通させる。 このとき、LE11側のノードND11が”H”レベルの状態で、時刻T4’の動作を迎えてしまうと、その後、LE11側のノードND11が”H”レベルの電位から”L”レベルの電位へ変化することとなる。この場合、ノードSN12の電位は昇圧されず、第5のトランジスタM15のゲート容量を介した容量結合により、ノードSN12の電位はVDDより小さく、GND近くまで降圧されてしまう。 時刻T5’にて、LE11側のノードND11を”L”レベルの電位から”H”レベルの電位へ変化させる。ノードSN12の電位は、時刻T4’に降圧され、VDDよりも小さな値となったままであり、第5のトランジスタM15の駆動能力は小さくなる。このように、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度が低下してしまう場合がある。 また、ノードSN12の電位の降圧幅が大きい場合、ノードSN12の電位は”H”レベルから”L”レベルに変化することもある。この場合、ノードND11とノードND12間において、正しい論理信号が伝達されないことさえ懸念される。 以上より、選択されたコンフィギュレーションデータに対応した動作時に、非選択のコンフィギュレーションデータを書き換えるマルチコンテキスト方式の場合、ノードND11の電位に依存して、ノードND11とノードND12間の信号伝達速度が低下する場合があった。 本発明の一態様は少なくとも上述した新たな一課題を認識し、当該一課題を解決するために、LEの出力電位を”L”レベルとする回路構成及びその駆動方法を提案する。または、本発明の一態様は新規な回路を提案する。または、本発明の一態様は新規な回路の駆動方法を提案する。または、本発明の一態様は新規な半導体装置を提案する。なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの課題の全てを解決する必要はない。なお、これら以外の課題は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様は、第1のロジックエレメントと、記第1のロジックエレメントと電気的に接続された第1のスイッチと、記第1のスイッチと電気的に接続された第2のロジックエレメントと、を有し、少なくとも、第1のロジックエレメントは、第2のスイッチを有し、第2のスイッチは、第1のロジックエレメントからの出力電位をLレベルとする機能を有する半導体装置である。
【発明の効果】
本発明の一態様によれば、コンフィギュレーションを行う際に、容量結合による電荷保持ノードの昇圧効果を用いて、信号伝達速度が向上した半導体装置及びその駆動方法を提供することができる。 本発明の一態様によれば、信号伝達速度を低下させることのない半導体装置及びその駆動方法を提供することができる。または、本発明の一態様によれば、新規な半導体装置を提供することができる。または、本発明の一態様によれば、新規な半導体装置の駆動方法を提供することができる。なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図2】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図3】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図4】本実施の形態に係るタイミングチャートを説明する図。

【図5】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図6】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図7】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図8】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図9】本実施の形態に係る電子機器等の構成を説明する図。

【図10】半導体装置の構成を説明する図。

【図11】タイミングチャートを説明する図。

【図12】タイミングチャートを説明する図。

【図13】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図14】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図15】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図16】本実施の形態に係るタイミングチャートを説明する図。

【図17】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

【図18】本実施の形態に係る半導体装置の構成を説明する図。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

C11 容量   C12 容量   C21 容量   C22 容量   C31 容量   C32 容量   F1 ノード   M11 トランジスタ   M12 トランジスタ   M13 トランジスタ   M14 トランジスタ   M15 トランジスタ   M16 トランジスタ   M21 トランジスタ   M22 トランジスタ   M23 トランジスタ   M24 トランジスタ   M25 トランジスタ   M26 トランジスタ   M31 トランジスタ   M32 トランジスタ   M33 トランジスタ   M34 トランジスタ   M35 トランジスタ   M36 トランジスタ   N23 ノード   N24 ノード   N33 トランジスタ   ND11 ノード   ND12 ノード   ND21 ノード   ND22 ノード   ND23 ノード   ND24 ノード   ND31 ノード   ND32 ノード   ND33 ノード   SN11 ノード   SN12 ノード   SN21 ノード   SN22 ノード   SN31 ノード   SN32 ノード   SW1 スイッチ群   SW11 スイッチ   SW12 スイッチ   SW21 スイッチ   SW21−22 スイッチ   SW22 スイッチ   SW31 スイッチ   SW32 スイッチ   2n−2n SW   2n−21 SW   2n−22 SW   21−2n SW   21−21 SW   21−22 SW   22 トランジスタ   22−2n SW   22−21 SW   22−22 SW   23 トランジスタ   32 ノード   33 ノード   54 インバータ   66A 回路   66B 回路   68 インバータ   70 トランジスタ   72 容量   74 トランジスタ   76 トランジスタ   91 絶縁膜   92a 酸化物半導体膜   92b 酸化物半導体膜   92c 酸化物半導体膜   93 導電膜   94 導電膜   95 絶縁膜   96 導電膜   97 絶縁表面   101 信号線   102 信号線   103 信号線   104 信号線   105 信号線   201 スイッチ   202 LUT   203 レジスタ   204 記憶装置   210 信号線   211 信号線   220 信号線   221 信号線   222 信号線   301 信号線   302 信号線   303 信号線   304 信号線   305 信号線   306 メモリ   400 基板   401 素子分離領域   402 不純物領域   403 不純物領域   404 チャネル形成領域   405 絶縁膜   406 ゲート電極   411 絶縁膜   412 導電膜   413 導電膜   414 導電膜   416 導電膜   417 導電膜   418 導電膜   420 絶縁膜   421 絶縁膜   422 絶縁膜   430 半導体膜   430a 酸化物半導体膜   430c 酸化物半導体膜   431 ゲート絶縁膜   432 導電膜   433 導電膜   434 ゲート電極   520 基板   521 トランジスタ   522 トランジスタ   523 容量   524 導電層   525 導電層   528 絶縁膜   530 導電層   531 導電層   532 導電層   533 導電層   534 半導体層   535 半導体層   536 絶縁膜   537 開口部   539 導電層   540 導電層   541 領域   543 絶縁膜   601 半導体基板   610 素子分離領域   611 絶縁膜   612 絶縁膜   613 絶縁膜   625 導電膜   626 導電膜   627 導電膜   634 導電膜   635 導電膜   636 導電膜   637 導電膜   644 導電膜   651 導電膜   652 導電膜   653 導電膜   661 絶縁膜   662 ゲート絶縁膜   663 絶縁膜   701 半導体膜   710 領域   711 領域   721 導電膜   722 導電膜   731 ゲート電極   5001 筐体   5002 筐体   5003 表示部   5004 表示部   5005 マイクロホン   5006 スピーカー   5007 操作キー   5008 スタイラス   5101 車体   5102 車輪   5103 ダッシュボード   5104 ライト   5301 筐体   5302 冷蔵室用扉   5303 冷凍室用扉   5401 筐体   5402 表示部   5403 キーボード   5404 ポインティングデバイス   5601 筐体   5602 筐体   5603 表示部   5604 表示部   5605 接続部   5606 操作キー   5801 筐体   5802 筐体   5803 表示部   5804 操作キー   5805 レンズ   5806 接続部

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