特許6805674IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

発光素子及びその製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特許文献1の発光素子においては、p型半導体層上にルテニウムからなる反射電極層が直接接続されているが、RuはTi等の他の電極材料と比較してAlxGa1−xN(0≦x≦1)との接触抵抗が高いという欠点がある。このため、発光素子の順方向電圧が上昇する原因となる。 また、特許文献2の発光素子が紫外発光素子である場合には、p型半導体層のAl組成が大きくなり、その上にTi膜を形成しただけではp型半導体層とTi膜がオーミック接触しない場合がある。特許文献2にはオーミック接触を形成するための特別な処理については開示されていないため、特許文献2の発光素子が紫外発光素子である場合には、p型半導体層とTi/Ru/Au多層構造を有するパッド電極とはオーミック接触しないものと考えられる。 本発明の目的は、紫外線を発する発光素子であって、n電極の発光層のAlGaN層との接触抵抗が低いために順方向電圧が低く、かつn電極の光反射特性が高いために光取出効率の高い発光素子、及びその製造方法を提供することにある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様は、目的を達成するために、下記[1]〜[5]の発光素子の製造方法、及び[6]〜[8]の発光素子を提供する。
【発明の効果】
本発明によれば、紫外線を発する発光素子であって、n電極の発光層のAlGaN層との接触抵抗が低いために順方向電圧が低く、かつn電極の光反射特性が高いために光取出効率の高い発光素子、及びその製造方法を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、実施の形態に係る発光素子の垂直断面図である。

【図2】図2(a)は、発光素子に500mAの電流を流したときのTi層の膜厚と順方向電圧VFの関係をグラフ化したものである。図2(b)は、表4のTi層の膜厚とn側接触抵抗の関係をグラフ化したものである。

【図3】図3(a)は、nコンタクト電極のTi層の成膜レートと発光素子の熱処理前後の順方向電圧差ΔVFとの関係を示すグラフである。図3(b)は、Ti層の成膜レートとスパッタリング出力との関係を示すグラフである。

【図4】図4は、Ti膜の密着性とスパッタリングガス圧力の関係を示すグラフである。

【図5】図5は、表5のRu層の反射率とスパッタリングガス圧力との関係をグラフ化したものである。

【図6】図6(a)は、Ru層、Pt層、Rh層の反射率を比較したグラフである。図6(b)は、Ru膜の膜厚と反射率との関係を示すグラフである。図6(c)は、Ru層及びPt層の熱処理前後の反射率の変化を示すグラフである。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1 発光素子   11 n型半導体層   12 発光層   13 p型半導体層   15 DBR膜   16 nコンタクト電極   17 pコンタクト電極

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