特許6897928IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

光半導体素子の製造方法および光半導体素子に関するものである。

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

近年、光通信システムの低消費電力化の要請に伴い、光通信システムに用いられる光半導体素子には、高い発光効率が求められている。発光効率を高めるためには、光半導体素子が、内部直列抵抗を低減し、且つ、活性層に対して効率的に電流を注入し得る構造を備えることが望まれる。光半導体素子の内部直列抵抗を低減する為には、例えば活性層上のクラッド層の不純物濃度を高めるとよい。また、活性層に対して効率的に電流を注入する為には、例えば一対の電流ブロック領域を活性層の両側に設けるとよい。 しかしながら、活性層上のクラッド層の不純物濃度を高めると、活性層への不純物の拡散が増大してしまう。特に、p型不純物である亜鉛の拡散は、他の不純物と比較して速い。活性層への不純物の拡散は、非発光再結合中心の増加や、活性層を構成する多重量子井戸の混晶化の原因となり、結果として、光半導体素子の発光効率の低下や通電劣化を引き起こす。従って、他の方式により内部直列抵抗を低減することが望まれる。 本発明は、このような問題点に鑑みてなされたものであり、内部直列抵抗を低減し得る光半導体素子の製造方法および光半導体素子を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

上述した課題を解決するために、本発明の一光半導体素子の製造方法は、第1導電型の第1クラッド層及び活性層を含む半導体積層部を成長させる工程と、半導体積層部にエッチングを施すことにより、第1クラッド層及び活性層を含むメサ構造を形成する工程と、第2導電型もしくは高抵抗の第1埋め込み層をメサ構造の両側に成長させる工程と、第1導電型の第2埋め込み層を第1埋め込み層上に成長させる工程と、第・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
【発明の効果】
本発明による光半導体素子の製造方法および光半導体素子によれば、内部直列抵抗を低減することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】図1は、一光半導体素子の平面図である。

【図2】図2は、図1に示されたII−II線に沿った断面図である。

【図3】図3は、レーザ素子部を部分的に拡大して示す断面図である。

【図4】図4(a)及び図4(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。

【図5】図5(a)及び図5(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。

【図6】図6(a)及び図6(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。

【図7】図7は、InPの成長速度の温度依存性を示すグラフである。

【図8】図8は、InPの成長速度のCH3Cl流量依存性を示すグラフである。

【図9】図9は、InPの成長速度の圧力依存性を示すグラフである。

【図10】図10は、一変形例に係る光半導体素子の構成を示す断面図である。

【図11】図11は、比較例としての光半導体素子の構成を示す断面図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

1A,1B…光半導体素子、3…レーザ素子部、4…メサ構造、5…第1クラッド層、7…活性層、7a,7b…端面、9a…第2クラッド層、9b…第1埋め込み層、9c…領域、10…基板、11…第2埋め込み層、13…第3クラッド層、15…絶縁膜、17,19…金属膜、21,23…電極パッド、25…コンタクト層、29…半導体積層部、31,33…トレンチ、M1,M2…マスク。

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