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公報発行日 2021年7月7
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【図1】図1は、一光半導体素子の平面図である。
【図2】図2は、図1に示されたII−II線に沿った断面図である。
【図3】図3は、レーザ素子部を部分的に拡大して示す断面図である。
【図4】図4(a)及び図4(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図5】図5(a)及び図5(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図6】図6(a)及び図6(b)は、光半導体素子の製造方法の各工程を示す断面図である。
【図7】図7は、InPの成長速度の温度依存性を示すグラフである。
【図8】図8は、InPの成長速度のCH3Cl流量依存性を示すグラフである。
【図9】図9は、InPの成長速度の圧力依存性を示すグラフである。
【図10】図10は、一変形例に係る光半導体素子の構成を示す断面図である。
【図11】図11は、比較例としての光半導体素子の構成を示す断面図である。
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