【図1A】図１はここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの斜視図を提供しており、図１Ａはフレームとマルチウェルプレートを別々に上から示している。

【図1B】図１はここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの斜視図を提供しており、図１Ｂはフレームとマルチウェルプレートを別々に下から示す斜視図である。

【図1C】図１はここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの斜視図を提供しており、図１Ｃはマルチウェルプレートを保持しているフレームの上からの斜視図及び下からの斜視図を示している。

【図2A】図２Ａ−Ｃは、ここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの代わりの実施形態の、図１と同様の斜視図を提供している。

【図2B】図２Ａ−Ｃは、ここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの代わりの実施形態の、図１と同様の斜視図を提供している。

【図2C】図２Ａ−Ｃは、ここに記載の分析システムのマルチウェルプレート及びフレームの代わりの実施形態の、図１と同様の斜視図を提供している。

【図3A】図３はここに記載の分析システムのベースプレートを示し、図３Ａは上からの概略平面図を示している。

【図3B】図３はここに記載の分析システムのベースプレートを示し、図３Ｂは上から近づいてくるマルチウェルプレート／フレーム配列をともに示す斜視図である。

【図3C】図３はここに記載の分析システムのベースプレートを示し、図３Ｃはベースプレートへドッキングされたマルチウェルプレートをともに示す斜視図である。

【図4A】図４はここに記載の分析システムを光学的検出システムに関連させて描いており、図４Ａは異なる構成要素の分解斜視図を提供している。

【図4B】図４はここに記載の分析システムを光学的検出システムに関連させて描いており、図４Ｂは組立体の斜視図を示している。

【図4C】図４はここに記載の分析システムを光学的検出システムに関連させて描いており、図４Ｃは光学的検出システム内の分析システムを通る光路の断面図を示している。

【図5】温熱培養システムと作用し合う、ここに記載の分析システムの断面図である。