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公報発行日 2021年8月11
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【図1】実施例であるNo.10に係るフラックスのSEM写真(倍率は400倍)である。同図中、右下のスケールバーは10μmを示す。
【図2】比較例であるNo.29に係るフラックスのSEM写真(倍率は400倍)を示す。同図中、右下のスケールバーは10μmを示す。
【図3】(a)は、実施例であるNo.10に係るフラックスのSEM写真であり、(b)〜(d)は、(a)と同じ位置でのEDSによるX線マッピングである。なお、(b)はNa、(c)はSi、(d)はBaに関するX線マッピングである。
【図4】実施例であるNo.10に係るフラックスのEDSスペクトルである。
【図5】(a)は、比較例であるNo.29に係るフラックスのSEM写真であり、(b)〜(d)は、(a)と同じ位置でのEDSによるX線マッピングである。なお、(b)はNa、(c)はSi、(d)はBaに関するX線マッピングである。
【図6】比較例であるNo.29に係るフラックスのEDSスペクトルである。
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