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特開 2023-184508出願番号 特願 2023-99504
電解加工の方法およびシステム
出願人 ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ（識別番号 390041542）
2026年 特許公開件数ランキング 2021位 7件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 983位 15件（※）
公報発行日 2023年12月28
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2023-184508 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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技術分野
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】電解加工の方法およびシステムを提供すること。
【解決手段】本方法は、一次電場を生成するために電解加工システムのツール電極に第１の電位を印加するステップを含み得る。電解加工システムは、ツール電極の反対側にあるワークピースと、少なくとも１つのバイアス電極と、少なくとも１つのバイアス電極内の少なくとも１つの流体送達チャネルとを含んでもよい。本方法は、少なくとも１つの第２の電位を少なくとも１つのバイアス電極に印加するステップをさらに含んでいてもよい。本方法は、少なくとも１つの流体送達チャネルを通して電解質溶液中に帯電した電解質溶液を送達するステップをさらに含んでいてもよい。少なくとも１つの第２の電位を印加し、帯電した電解質溶液を送達することにより、一次電場に隣接する少なくとも１つの二次電場を生成し、一次電場の少なくとも１つの場所を電位抑制する。
【選択図】図１
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図
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