特開2025-180357IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

この発明は、基板に対して薬液を用いた薬液処理およびリンス液を用いたリンス処理を行う基板処理方法および基板処理装置に関するものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】薬液処理後の基板上に残留する不純物を減少させる。
【解決手段】この発明では、基板の一方主面にリンス液膜が形成された基板に薬液が供給される。これにより、基板の一方主面上にリンス液で構成される粘性底層上に薬液が基板外に向けて流れる主流領域が形成されるとともに、薬液に含まれる薬液成分が主流領域から粘性底層に素早く拡散され、基板の一方主面に到達して薬液処理を実行する。一方、不純物は主流領域から粘性底層に遅れて拡散してくる。そこで、本発明では、不純物は主流領域から粘性底層に拡散して一方主面に到達する前に、薬液処理を受けた一方主面にリンス液が供給され、主流領域に存在する薬液および不純物が基板外に押し流される。
【選択図】図４

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

こうした基板処理を行うにあたっては、歩留まり向上を図るという観点から、基板上に残留するパーティクルを減少させることが重要な課題のひとつになっている。そこで、一般的には、基板処理に使用する前に、薬液およびリンス液に対してフィルタリング処理を施し、パーティクルの除去を図っている。ここで、塩酸（ＨＣｌ）やフッ化水素酸（ＨＦ）などの薬液については、パーティクル除去に使用可能なフィルタが限定されるため、薬液中のパーティクル濃度はＤＩＷなどのリンス液中のそれよりも多い。そこで、薬液処理後に基板上に残留するパーティクルを減少させることができる基板処理技術が望まれている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

この発明の第１態様は、基板処理方法であって、基板の一方主面にリンス液を供給して基板の一方主面にリンス液膜を形成するリンス液膜形成工程と、リンス液膜形成工程により形成されたリンス液膜を有する基板の一方主面に向けて薬液成分を有する薬液を供給することで、基板の一方主面上にリンス液で構成される粘性底層上に薬液が基板外に向けて流れる主流領域を形成するとともに主流領域から粘性底層に拡散して基板の一方主面・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

のように、本発明によれば、薬液処理後の基板上に残留する不純物を減少させることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明に係る基板処理装置の一実施形態を装備する基板処理システムの概略構成を示す平面図である。
【図2】 本発明に係る基板処理装置の主要部の構成を示す図である。
【図3】 図２に示す基板処理装置により実行される基板処理方法を示すフローチャートである。
【図4】 基板処理方法における主要な動作を模式的に示す図である。

選択図 図4出願人が指定した本件の代表的な図

１０…基板処理装置 １２…スピンチャック（基板保持部） １４…薬液ノズル（薬液供給部） １７…リンス液ノズル（リンス液供給部） Ｌ１…リンス液膜 Ｌ１ａ、Ｌ２…粘性底層 Ｌ３…主流領域 ＰＴ…パーティクル（不純物） Ｓ…基板 Ｓａ…上面（基板の一方主面）

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