ホーム > 特許ランキング > 東芝ライテック株式会社 > 特開2025-184166
2026年 特許公開件数ランキング 152位 143件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 271位 68件(※)
公報発行日 2025年12月18
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2025-184166 ログイン済みの方はこのURLへ
[この特許公報を共有したい場合]あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
【課題】処理物に対する汎用性を向上させることができる紫外線処理装置を提供することである。
【解決手段】紫外線処理装置は、オゾンを含む雰囲気を維持可能なチャンバと;前記チャンバの内部に設けられた処理物に、ピーク波長が254nm以上、320nm以下の紫外線を照射する少なくとも1つの光源と;を具備している。
【選択図】図1
本発明の実施形態によれば、処理物に対する汎用性を向上させることができる紫外線処理装置を提供することができる。
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
[広告欄]
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります