特開2026-142944IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

基板処理装置および基板処理方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】適切なタイミングで樹脂部材を保守することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】プロセッサは、プログラムを実行することにより、処理液が接触する樹脂部材を含むチャンバにおいて、処理液を用いた基板処理が実行される場合における処理条件から、学習モデル600を用いて樹脂部材の重量変化を予測する。学習モデル600は、処理条件を入力とし、メイン正解データおよびサブ正解データを出力とする入出力関係を学習した推論モデルである。メイン正解データは、処理条件でチャンバにより基板処理が実行された後の樹脂部材の重量変化を示す。サブ正解データは、基板処理に関連する物性値を示す。
【選択図】図4

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

基板処理装置においては、カップ、ノズルまたは配管等の種々の部品が樹脂部材により形成されている。これらの樹脂部材は、処理液と接触することにより徐々に腐食または劣化する。そのため、樹脂部材の腐食または劣化が重度になる前に、樹脂部材の交換または基板処理装置の買い替え等の保守を行う必要がある。しかしながら、樹脂部材の腐食または劣化の進行具合は、基板処理装置の運用期間または基板処理の内容等により異なるため、適切なタイミングで基板処理装置を保守することは容易ではない。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一局面に従う基板処理装置は、プロセッサを備え、前記プロセッサは、プログラムを実行することにより、処理液が接触する樹脂部材を含むチャンバにおいて、前記処理液を用いた基板処理が実行される場合における処理条件から、学習モデルを用いて前記樹脂部材の重量変化を予測し、前記学習モデルは、前記処理条件を入力とし、メイン正解データおよびサブ正解データを出力とする入出力関係を学習した推論モデルであり、・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、適切なタイミングで樹脂部材を保守することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の構成の一例を示す図である。
【図2】 情報処理装置の構成の一例を示す図である。
【図3】 処理部の内部を水平に見た模式図である。
【図4】 学習モデルの構造の一例を示す図である。
【図5】 図1の学習装置の機能的な構成を示すブロック図である。
【図6】 データ取得部により取得されるデータセットの一例を示す図である。
【図7】 図6のデータセットにおけるメイン正解データを説明するための図である。
【図8】 図2の情報処理装置の機能的な構成を示すブロック図である。
【図9】 学習処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図10】 寿命評価処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図11】 第1の変形例における学習モデルの構造の一例を示す図である。
【図12】 第2の変形例における学習モデルの構造の一例を示す図である。
【図13】 他の実施の形態における学習モデルの構造の一例を示す図である。

選択図 図4出願人が指定した本件の代表的な図

1…処理機構,2…制御装置,3…チャンバ,10…スピンチャック,11…チャックピン,12…スピンベース,13…スピン軸,14…スピンモータ,21…処理カップ,22…外壁部材,23…カップ,24…ガード,27…ガード昇降ユニット,31…薬液ノズル,34,38,42,46…ノズル移動ユニット,35…リンス液ノズル,39…処理液ノズル,40…処理液配管,41…処理液バルブ,43…置換液ノズル,51…遮断部材,51L…下面,52…円板部,53…支軸,54…遮断部材昇降ユニット,55…中心ノズル,56…上気体配管,57…上気体バルブ,58…流量調整バルブ,59…上温度調節器,100…処理ユニット,110…処理部,120…搬送機構,200…データベース記憶装置,300…情報処理装置,301…条件決定部,302…重量予測部,303…算出部,304…寿命評価部,305…提示部,306…処理制御部,310…CPU,320…RAM,330…ROM,340…記憶装置,350…操作部,360…表示装置,370…入出力I/F,380…バス,400…学習装置,401…データ取得部,402…記述子取得部,403…モデル生成部,500…基板処理装置,501…ネットワーク,学習モデル600…,601…下位NN,602…上位NN,610…樹脂NN,611~614,621~624,631~633,641~643,651~653,661~664…層,620…処理液NN,630…樹脂予測NN,640…処理液予測NN,650…相互作用予測NN,A1…回転軸線,W…基板

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