特開2026-154218IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

塗布機構、塗布装置および塗布方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】凹凸形状および塗布材料の視認での誤判定を抑制し、安定的で均一な塗布が可能な塗布機構、塗布装置および塗布方法を提供する。
【解決手段】
塗布機構１００は、処理対象材５の表面を凹ませる第１塗布針２４Ａと、凹部内に塗布材料を供給可能な第２塗布針２４Ｂとを備える。第１塗布針２４Ａおよび第２塗布針２４Ｂは鉛直方向に沿うように延在し、延在方向に沿って移動可能である。第２塗布針２４Ｂの第２先端部の断面積は、第１塗布針２４Ａの第１先端部の当該断面積よりも小さい。第１塗布針２４Ａは、第１根元部に、第１固定部材が設置される。第１固定部材の第１塗布針２４Ａが固定されている側とは反対側に弾性部材が当接される。弾性部材の第１固定部材と反対側には受け部が当接される。
【選択図】図６

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

特開２０００－１４６５３７号公報の手法によれば、塗布材料の付着により得られる凹凸形状を可視化できる。しかし、もともと表面に凹凸形状を有する処理対象材に塗布された場合、その凹凸形状が処理対象材の表面のものであるのか、塗布材料によるものであるのか、判定が困難である。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示に従った塗布機構は、処理対象材に塗布材料を塗布針で塗布する。塗布機構は、塗布針として、第１塗布針と第２塗布針とを備える。第１塗布針は、処理対象材に接触可能な第１先端部を含み、第１先端部により処理対象材の表面を凹ませる。第２塗布針は、処理対象材の表面に形成された凹部内に塗布材料を供給可能である。第１塗布針および第２塗布針は鉛直方向に沿うように延在し、延在方向に沿って移動可能である。第２塗・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、第１塗布針により形成される凹部を積極的に利用して第２塗布針による塗布がなされる。このため、凹凸形状および塗布材料の視認がしやすくなる。したがって、凹凸形状および塗布材料の視認での誤判定を抑制し、安定的で均一な塗布を実現できる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本実施の形態に従った塗布装置の模式図である。
【図2】 第１塗布針を含む第１塗布機構を示す模式図である。
【図3】 第２塗布針を含む第２塗布機構を示す模式図である。
【図4】 第１塗布針の先端部の拡大模式図である。
【図5】 第２塗布針の先端部の拡大模式図である。
【図6】 塗布装置のうち、第１塗布機構と第２塗布機構とが並ぶ部分を抜き取り拡大した模式図である。
【図7】 塗布針ホルダの斜視模式図である。
【図8】 第１塗布機構における塗布針ホルダの展開図である。
【図9】 第２塗布機構における塗布針ホルダの展開図である。
【図10】 図２および図３の塗布機構におけるベース体を示す模式図である。
【図11】 図２、図３および図１０に示した塗布機構のカム部材を説明するための模式図である。
【図12】 図３に示した塗布機構における塗布針の動作を説明するための模式図である。
【図13】 本実施の形態に係る塗布方法の概略を示すフローチャートである。
【図14】 本実施の形態の塗布方法の第１工程を示す概略図である。
【図15】 本実施の形態の塗布方法の第２工程を示す概略図である。
【図16】 本実施の形態の塗布方法の第３工程を示す概略図である。
【図17】 本実施の形態の塗布方法の第４工程を示す概略図である。
【図18】 本実施の形態の塗布方法の第５工程を示す概略図である。
【図19】 実施例１において形成された凹部を平面視した写真である。
【図20】 実施例１において形成された凹部内に塗布材料が塗布された態様を平面視した写真である。
【図21】 実施例１の比較例として、形成された凹部内に塗布材料が塗布された態様を平面視した写真である。
【図22】 図１３に示す工程により形成された凹部の位置座標を検出する第１方法を示すフローチャートである。
【図23】 実施例２の凹部の底面を周囲と判別する工程を示す模式図である。
【図24】 第１方法において、光が照射され凹部の壁面にて散乱された態様を平面視した写真である。
【図25】 第１方法において、抽出された凹部の壁面を示す写真である。
【図26】 図１３に示す工程により形成された凹部の位置座標を検出する第２方法を示すフローチャートである。

選択図 図6出願人が指定した本件の代表的な図

１ Ｘ軸テーブル、２ Ｙ軸テーブル、３ Ｚ軸テーブル、４ 塗布機構、４Ａ 第１塗布機構、４Ｂ 第２塗布機構、５ 基板、５ａ 表面、６ 観察光学系、７ ＣＣＤカメラ、８ 操作パネル、９ モニタ、１０ 制御用コンピュータ、２０ 塗布針ホルダ、２２ ホルダベース、２３ ホルダ蓋、２４ 塗布針、２４Ａ 第１塗布針、２４Ａ１ 第１先端部、２４Ａ２ 第１幅一定部、２４Ａ３ 第１先端面、２４Ｂ 第２塗布針、２４Ｂ１ 第２先端部、２４Ｂ２ 第２幅一定部、２４Ｂ３ 第２先端面、２５Ａ 第１固定部材、２５Ｂ 第２固定部材、２５Ｃ 貫通孔、２５Ｆ，２５Ｓ 上端面、２６ リニアガイド、２７ バネ、２８ 受け部、２９ 長孔、３０，３１，３４，３６ 基準面、３３ マグネット、３５ 可動ベース、４１ サーボモータ、４３ カム、４４ 軸受、４５ カム連結板、４６ 可動部、５９ 凹部、５９Ａ 壁面、５９Ｂ 底面、６１ カム面、６２ 上端フラット領域、６３ 下端フラット領域、７０ 塗布材料、１００ 塗布装置。

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