特開2026-154672IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板（カラーフィルタ用基板を含む）、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板または太陽電池用基板等の基板を処理する基板処理装置および基板処理方法

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】駆動部において生じる塵が処理槽内に混入することを効果的に防止する基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置（１００）は、複数のスプレーノズル（３）を支持する支持シャフト（４）と、支持シャフト（４）を往復移動させるシャフト駆動機構（１０）と、を備え、その内部の圧力が処理槽（１）内の圧力よりも高く設定されている第１流入防止部（１４）が、処理槽（１）の壁面に形成された第１貫通孔（Ｈ１）から、支持シャフト（４）の一部を覆うように処理槽（１）内に設けられている。
【選択図】図２

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

上述のように基板表面に処理液を均一に供給するためには、スプレーノズルを回転揺動させるタイプの構成が採用されている場合だけではなく、スプレーノズルが設けられた支持シャフトを基板の搬送方向に沿って往復移動させる構成を採用することが検討されている。このように支持シャフトを往復移動させる構成の基板処理装置について本件発明者らが開発を進めていく中で、発塵対策を課題として見出した。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するために、本開示の一態様に係る基板処理装置は、基板をその主面に沿った搬送方向に搬送する搬送機構と、前記搬送方向と交差する交差方向に配列され、前記基板の主面に処理液を噴射する複数のスプレーノズルと、前記搬送機構および前記複数のスプレーノズルを収容する処理槽と、前記複数のスプレーノズルを支持し、前記交差方向に沿って伸び、かつ、その少なくとも一方端部が前記処理槽を貫通する支持シャ・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一態様によれば、駆動部において生じる塵が処理槽内に混入することを効果的に防止する基板処理装置を提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の基板処理装置の概略構成の一例を示す概略図である。
【図2】 図１に示す基板処理装置の概略構成の一例を示す別の概略図である。
【図3】 図２に示す基板処理装置において、第１流入防止部および第２流入防止部の機能を説明するための図である。
【図4】 図２に示す基板処理装置において、第１流入防止部の概略構成の一例を示す斜視図である。
【図5】 支持シャフトの延伸方向に沿う断面視において、図４に示す第１流入防止部付近を示す断面図である。
【図6】 図２に示す基板処理装置において、第２流入防止部の概略構成の一例を示す斜視図である。
【図7】 図２に示す基板処理装置が備えるシャフト駆動機構の概略構成の一例を示す斜視図である。
【図8】 本開示の変形例１に係るシャフト駆動機構の概略構成の一例を示す斜視図である。

選択図 図2出願人が指定した本件の代表的な図

１ 処理槽 １ｂ 側壁 ２ 搬送機構 ３ スプレーノズル ４ 支持シャフト １０、１０Ａ シャフト駆動機構 １１ シャフト支持部 １４ 第１流入防止部 １５ 第２流入防止部 ４１ 一方端部 ４２ 他方端部 ４３ 第１拡径部 １００ 基板処理装置 １４３ 下部 １４４ 排出孔 ４３１ 凹部 Ｄ１ 交差方向 Ｈ１ 第１貫通孔 Ｈ２ 第２貫通孔 Ｓ 基板

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