ホーム > 特許ランキング > 株式会社SCREENホールディングス > 特開2026-154866
2026年 特許公開件数ランキング 61位 369件(※)
2026年 特許取得件数ランキング 50位 357件(※)
公報発行日 2026年10月5
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-154866 ログイン済みの方はこのURLへ
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※ 共同出願を含む
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【課題】エッチングの均一性を向上する。
【解決手段】基板処理装置1の第1電極61は、基板9に電気的に接続する。第2電極62は、処理液に電気的に接続する。電源部63は、第1電極61と第2電極62との間に電圧を印加する。処理液供給部5は、基板9の中央部と周縁部との間で径方向に沿って水平に延びるバーノズル(すなわち、ノズル51)を備える。ノズル51は、径方向に沿って配列される複数の吐出口を有する。複数の吐出口は、処理液をそれぞれ吐出する。第2電極62は、ノズル51に設けられる。第2電極62は、複数の吐出口に供給される処理液に直接的に接触することにより、当該処理液と電気的に接続される。
【選択図】図2
本発明では、エッチングの均一性を向上することができる。
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