特開2026-156269IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

基板処理装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】製品の歩留まりを向上させる。
【解決手段】基板処理装置は、リフタ（５）を備え、リフタ５は、第１保持アーム（６０Ａ）と、第２保持アーム（６０Ｂ）と、を有し、第１保持アーム（６０Ａ）および第２保持アーム（６０Ｂ）のそれぞれは、保持本体（６１）、内側支持プレート（６２）、および外側支持プレート（６３）を、固定するボルト（６４）およびナット（６５）を有し、ボルト（６４）は、保持本体（６１）に対して平面（Ｓ１）に近い側に配置され、ナット（６５）は、保持本体（６１）に対して平面（Ｓ１）から遠い側に配置される。
【選択図】図４

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

ところで、乾燥処理を行った基板では、基板保持具の支持プレートにより支持される部位の近傍に、特異なパーティクルが付着することが知られていた。近年、半導体デバイスの微細化が進んでおり、エッジイクスクルージョン（edge exclusion）の幅も狭くなってきている。このような状況において、支持プレートにより支持される基板の部位近傍に付着する特異なパーティクルは、製品の歩留まりに直接的な影響を及ぼすことが考えられるため、発生を低減させる必要が有った。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板に所定の処理を行う基板処理装置であって、処理液を貯留する処理槽と、前記基板の外周端部を支持し、複数の前記基板を、基板面の法線方向に並んだ状態で、それぞれ起立姿勢で保持する基板保持具と、前記処理槽内の処理液に前記基板を浸漬させた状態である第１位置と、前記処理槽の外部に前記基板を位置させた状態である第２位置との間で前記基板保持具を昇降さ・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一態様によれば、製品の歩留まりを向上させることができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 基板処理装置の概略構成の一例を示す概略図である。
【図2】 基板処理装置の構成を示すブロック図である。
【図3】 リフタの構成を示す概略斜視図である。
【図4】 リフタを正面から見た概略正面図である。
【図5】 リフタが備える第１保持アームを正面から見た概略正面図である。
【図6】 リフタが備える第３保持アームを正面から見た概略正面図である。
【図7】 基板Ｗに付着する特異なパーティクルについて説明するための図である。

選択図 図4出願人が指定した本件の代表的な図

３ 処理槽 ５ リフタ（基板保持具） ５Ａ 第１位置 ５Ｂ 第２位置 ６ 駆動モータ（基板昇降モータ） ２８ 有機溶剤供給部 ２９ 気体供給部 ５１ 固定アーム ６０Ａ 第１保持アーム ６０Ｂ 第２保持アーム ６１ 保持本体 ６２ 内側支持プレート ６３ 外側支持プレート ６４ ボルト ６５ ナット ７０ 第３保持アーム ７１ 中央保持本体 ７２ 第１中央支持プレート ７３ 第２中央支持プレート ７４ 中央ボルト ７５ 中央ナット ７６ 中央ワッシャー １００ 基板処理装置 Ｃ１ 中心 Ｓ１ 平面

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