技術分野
基板の処理に用いる情報処理装置、基板処理装置、情報処理方法、基板処理方法、情報処理プログラムおよび基板処理プログラム
要約特許出願時に添付された[要約書]
【課題】処理液を用いた基板処理におけるパターンの倒壊を減少させることが可能な情報処理装置、基板処理装置、情報処理方法、基板処理方法、情報処理プログラムおよび基板処理プログラムを提供する。
【解決手段】プロセッサは、プログラムを実行することにより、学習モデルを取得し、基板の処理条件を取得し、学習モデルを用いて、処理条件からパターン倒壊率を予測する。学習モデルは、処理条件と、基板の主面上の処理液を示す動画における処理液の特徴が定量化された動画特徴量との関係を学習した第1モデル部と、動画特徴量と、パターン倒壊率との関係を学習した第2モデル部とを含む。
【選択図】図6
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献1には、の昇華乾燥により、パターン強度が極めて低い場合でも基板を乾燥させたときに発生するパターンの倒壊が減少することが記載されている。処理液を用いた基板処理において、パターンの倒壊をさらに減少させることが求められる。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の第1の局面に従う情報処理装置は、パターンが形成された基板の主面に処理液を供給する基板処理に用いられる情報処理装置であって、第1のプロセッサを備え、前記第1のプロセッサは、プログラムを実行することにより、学習モデルを取得し、前記基板の処理条件を取得し、前記学習モデルを用いて、前記処理条件からパターン倒壊率を予測し、前記学習モデルは、前記処理条件と、前記基板の前記主面上の前記処理液を示す・・・ 続きを
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発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明によれば、処理液を用いた基板処理におけるパターンの倒壊を減少させることができる。
この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本発明の第1の実施の形態に係る基板処理装置の構成の一例を示す図である。
【図2】
情報処理装置の構成の一例を示す図である。
【図3】
処理ユニットの構成を示す概略断面図である。
【図4】
学習モデルの構造の一例を示す図である。
【図5】
図1の学習装置の機能的な構成を示すブロック図である。
【図6】
情報処理装置の機能的な構成を示すブロック図である。
【図7】
処理ユニットの機能的な構成を示すブロック図である。
【図8】
処理ユニットによる昇華乾燥処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図9】
情報処理装置による予測処理の流れの一例を示すフローチャートである。
【図10】
学習処理の流れの一例を示すフローチャートである。
10,20,30…機能部,11…液膜形成部,12…固化膜形成部,13…撮影実行部,14…リカバリ実行部,15…昇華実行部,21,34…条件取得部,22…予測部,23,31…動画取得部,24,32…設定部,25,33…特徴量抽出部,26…指令部,35…倒壊率取得部,36…データセット生成部,37…第1モデル生成部,38…第2モデル生成部,39…学習モデル生成部,100…処理ユニット,110,210…制御部,111,211…プロセッサ,112…メモリ,120…処理室,121,122…窓部,130…回転保持部,131…スピンモータ,132…スピンチャック,140…処理液供給部,150…気体供給部,160,170…カメラ,200…情報処理装置,220…RAM,230…ROM,240…補助記憶装置,250,350…操作部,260…表示部,270…入出力I/F,280…バス,290…記憶媒体,300…学習装置,400…基板処理装置,401…ネットワーク,500…学習モデル,510…第1モデル部,520…第2モデル部,W…基板
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