特開2026-156797IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

この発明は、例えばダイシング後の半導体チップをシート状のキャリアに担持させたワークを洗浄する技術に関するものである。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】キャリア上に隙間を空けて複数のチップが配列された構造を有するワークを効果的に洗浄する。
【解決手段】本発明は、シート状のキャリアの表面に複数のチップが隙間を空けて配列されたワークを洗浄する洗浄装置に係るものである。洗浄装置は、ワークを水平姿勢に保持する保持部と、ワークの上方に配置されワークに向け洗浄液を吐出するノズルと、チップ間の隙間に形成される溝の延びる方向に沿って、ノズルと保持部とを相対移動させる移動機構とを備える。
【選択図】図３

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

一般的に、チップはウエハ上で二次元マトリクス状にレイアウトされるから、ワークにおいてチップ間を隔てる溝は例えば二次元格子状に並んでいる。一方、スピン洗浄では、ワークに供給された洗浄液は、遠心力により回転中心から周縁に向かう半径方向に放射状に流れる。そのため、洗浄液による掃き出し作用は、溝の内部に付着したパーティクルに対しては必ずしも十分に機能しない。したがって、従来技術のようなスピン洗浄は、溝の内部にパーティクルが残留してしまうことがあるという問題を有し、洗浄をより効果的に行うという点において改良の余地がある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一の態様は、シート状のキャリアの表面に複数のチップが隙間を空けて配列されたワークを洗浄する洗浄装置であって、前記ワークを水平姿勢に保持する保持部と、前記ワークの上方に配置され前記ワークに向け洗浄液を吐出するノズルと、前記チップ間の前記隙間に形成される溝の延びる方向に沿って、前記ノズルと前記保持部とを相対移動させる移動機構とを備えている。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

以上のように、本発明によれば、ワーク上に隙間を空けて配置されたワーク間に形成される溝の方向に沿って、洗浄液の供給位置が経時的に変更される。このため、パーティクルが溝に残留するのを抑制し、ワークを効果的に洗浄することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 ワークの構成例を模式的に示す図である。
【図2】 洗浄処理の具体的態様を模式的に示す図である。
【図3】 本発明に係る洗浄装置の第１実施形態を示す図である。
【図4】 第１実施形態における洗浄処理を示すフローチャートである。
【図5】 本発明に係る洗浄装置の第２実施形態を示す上面図である。
【図6】 本発明に係る洗浄装置の第３実施形態を示す上面図である。
【図7】 本発明に係る洗浄装置の第４実施形態を示す図である。
【図8】 この実施形態における洗浄処理を示すフローチャートである。

選択図 図3出願人が指定した本件の代表的な図

１Ａ～１Ｄ 洗浄装置 ２ 保持部 ２４ 回動機構 ３１３，３２３ 移動機構 ３１４，３１９ ノズル（ノズル、第１のノズル） ３２４，３２９ ノズル（ノズル、第２のノズル） Ｃｐ チップ Ｄｃ 溝 Ｗ１ ダイシングフレーム Ｗ２ ダイシングテープ（キャリア） Ｗｋ ワーク

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