特開2026-156967IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

基板を処理する基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】中カップの上面に塗布液が堆積することを抑制することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、回転機構３と協働して、スピンチャック２の回転半径方向の外側に向かって溶剤を飛散させる溶剤飛散機構９１と、カップ４１とを備える。カップ４１は、上カップ４３と、排液エリアと排気エリアとが区分けして設けられている下カップ４６と、上カップ４３と下カップ４６との間に、下カップ４６の排気エリアの上方を覆うようにリング状に配置された中カップ４６とを備える。中カップ４５は、その外周端部からその内周端部に向かって下方に傾斜しており、上カップ４３の内面に沿って流れ落ちた塗布液および溶剤を外周端部の側で受け止めることが可能であり、受け止めた塗布液および溶剤を内周端部の側へ流下させ、下カップ４６の排液エリアへ案内する。
【選択図】図１

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

近年、基板に厚膜を形成するために高粘度の塗布液が用いられる。塗布液の粘度が増加することに伴い、メンテナンス周期（例えばカップ交換の周期）が短くなる傾向にある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る、基板に塗布液を塗布する基板処理装置は、前記基板を水平姿勢で保持する基板保持部と、前記基板保持部で保持された前記基板の中心を通過する鉛直軸回りに、前記基板保持部を回転する回転機構と、前記基板保持部で保持された前記基板の上面に前記塗布液を吐出する塗布液ノズルと、前記回転機構と協働して、前記基板保持部の回転半径・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る基板処理装置によれば、中カップの上面に塗布液が堆積することを抑制することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施例１に係る基板処理装置を示す縦断面図である。
【図2】 図１に示すカップの右部分を拡大した縦断面図である。
【図3】 下カップを示す平面図である。
【図4】 上カップ、内カップおよび基板を主に示す平面図である。
【図5】 基板昇降機構を示す側面図である。
【図6】 制御に係る構成を示すブロック図である。
【図7】 基板処理装置の動作の一例を示すフローチャートである。
【図8】 溶剤の流れを説明するため、カップを部分拡大した縦断面図である。
【図9】 塗布液が飛散する様子を説明するため、カップを部分拡大した縦断面図である。
【図10】 気体の流れを説明するため、カップを部分拡大した縦断面図である。
【図11】 基板の外周端が内カップの整流部材の外周端よりも突出している場合の課題を説明するための縦断面図である。
【図12】 内カップの整流部材の外周端が基板の外周端よりも突出している場合の効果を説明するための縦断面図である。
【図13】 実施例２に係るカップを部分拡大した縦断面図である。
【図14】 実施例３に係る基板処理装置を示す縦断面図である。
【図15】 実施例３に係る基板処理装置の動作の一例を示すフローチャートである。
【図16】 実施例４に係る基板処理装置を示す縦断面図である。
【図17】 変形例に係るカップを部分拡大した縦断面図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

１ … 基板処理装置 ２ … スピンチャック ３ … 回転機構 ２１ … 塗布液ノズル ２７ … 溶剤ノズル ３３ … 溶剤ノズル ４３ … 上カップ ４５ … 中カップ ４６，１０１ … 下カップ ４８ … 内カップ ５１ … 外周壁 ５１Ａ … 側面 ５３ … 天井壁 ５３Ａ … 液受け面 ５５ … トラップ部 ５５Ａ … トラップ面 ５７ … 上部開口 ５９Ａ … 上面 ６１ … 先端部材 ６５ … 内周壁 ６７ … 底壁 ６９ … 排気口 ７１ … ドレイン ７５ … 内カップ本体 ７６ … 整流部材 ８３ … 支持ピン ８７ … 昇降機構 ９１，１０７，１０９ … 溶剤飛散機構 ９３ … コントローラ ９５ … メモリ ＪＧ１，ＪＧ２ … カップ洗浄治具 １１１ … 溶剤ノズル ＡＸ１ … 鉛直軸 Ｈ２ … 保持位置 Ｈ３ … 受け渡し位置 Ｚ … 鉛直方向

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