特開 2026-156968出願番号特願 2025-46906
基板処理装置および基板処理装置の制御方法

出願人株式会社ＳＣＲＥＥＮホールディングス（識別番号 207551）

2026年特許公開件数ランキング 61位 369件（※）

2026年特許取得件数ランキング 50位 357件（※）

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公報発行日　2026年10月6

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_A1-2026-156968　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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技術分野

基板を処理する基板処理装置および基板処理装置の制御方法に関する。基板は、例えば、半導体基板、ＦＰＤ（Flat Panel Display）用の基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、セラミック基板、太陽電池用基板などが挙げられる。ＦＰＤは、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ（electroluminescence）表示装置などが挙げられる。

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】処理液中の気泡の発生を抑制することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置１のコントローラは、プレ濾過動作として、第１中間弁ＩＳＯが開いてから第２中間弁ＢＡＲが開くまでの間、第１中間弁ＩＳＯを開き、かつ入口弁ＩＮ、出口弁ＯＴ２および第２中間弁ＢＡＲを閉じた状態で、充填ポンプＦＰに、充填用圧力センサで計測された圧力値が第２供給圧力になるように充填ポンプＦＰ内の処理液の圧力を調整させること、第１中間弁ＩＳＯが開いた後、第１中間弁ＩＳＯを開き、かつ入口弁ＩＮ、出口弁ＯＴ２および第２中間弁ＢＡＲを閉じた状態で、吐出ポンプＤＰに、吐出用圧力センサで計測された圧力値が第３供給圧力になるように、吐出ポンプＤＰ内の処理液の圧力を調整させること、を行う。
【選択図】図２

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

従来から、処理液（例えばレジスト）中のパーティクル削減は重要な課題である。パーティクル発生の原因の１つは、処理液中の気泡である。気泡と塗布液（例えばレジスト）との界面でゲルが発生し、ゲル自体がパーティクルとなる。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明に係る、基板を処理する基板処理装置であって、鉛直方向に積層された複数個の処理チャンバと、前記複数個の処理チャンバの少なくとも１つに処理液を供給する液供給機構と、コントローラと、を備え、前記複数個の処理チャンバは各々、基板を保持するチャックと、前記チャックに保持された前記基板に処理液を吐出するノズルと、を備え、前記・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明に係る基板処理装置および基板処理装置の制御方法によれば、処理液中の気泡の発生を抑制することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】実施例１に係る基板処理装置の概略構成を示す側面図である。

【図2】基板処理装置の配管図である。

【図3】第１ポンプ機構の概略構成を示す側面図である。

【図4】制御に関する構成を説明するためのブロック図である。

【図5】第１ポンプ機構の動作を説明するためのフローチャートである。

【図6】（ａ）は、準備完了動作を示す図であり、（ｂ）は、吐出動作を示す図であり、（ｃ）は、濾過動作を示す図であり、（ｄ）は、パージ動作を示す図であり、（ｅ）は、充填動作を示す図である。

【図7】濾過動作（プレ濾過動作と実濾過動作）を説明するための図である。

【図8】充填用圧力センサおよび吐出用圧力センサの各々で計測された圧力値の変化を説明するための図である。

【図9】実施例２に係るパージ動作を説明するための図である。

【図10】実施例２に係る、充填用圧力センサおよび吐出用圧力センサの各々で計測された圧力値の変化を説明するための図である。

【図11】実施例３に係るパージ動作を説明するための図である。

【図12】実施例３に係る、充填用圧力センサおよび吐出用圧力センサの各々で計測された圧力値の変化を説明するための図である。

選択図図2出願人が指定した本件の代表的な図

１ … 基板処理装置３（３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ） … 処理チャンバ７ … 液供給機構９ … スピンチャック１３ … ノズル４１ … 第１ポンプ機構４５ … 送り配管４５Ａ，４５Ｂ，４５Ｃ，４５Ｄ … 配管４６，４８ … 枝配管５５，７１ … ダイアフラム５７，７３ … ポンプ駆動機構Ｍ１，Ｍ２ … 電動モータ８１ … フィルタ、ＩＮ … 入口弁ＩＳＯ … 第１中間弁ＢＡＲ … 第２中間弁ＯＴ２ … 出口弁８５ … 戻り配管ＦＰ … 充填ポンプＤＰ … 吐出ポンプ１０１ … コントローラ１０３ … メモリＳＳＦ … 充填用圧力センサＳＳＤ … 吐出用圧力センサＰ１ … 第１供給圧力Ｐ２ … 第２供給圧力Ｐ３ … 第３供給圧力Ｐ４Ｄ … 濾過圧力Ｐ７ … 第１パージ圧力Ｐ８ … 第２パージ圧力ＧＲ１ … 第１合流管

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特開2026-156968IP Force 特許公報全文掲載

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