特開2026-157036IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

接着シート

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】加熱工程による剥がれを防止することができる接着シートを提供する。
【解決手段】接着シートであって、接着層と、基材と、金属層をこの順に有し、前記接着シートは、前記接着層をガラスに貼り合わせ、ガラス側から波長365nmの光を積算光量3000mJ/cm2となるように照射し、更に、200℃で1時間加熱した後における、23℃でのガラスに対する180°剥離力が5N/25mm以上であり、前記接着シートは、前記接着層側から波長365nmの光を積算光量3000mJ/cm2となるように照射した後における、200℃での引張貯蔵弾性率が100MPa以上である、接着シート。
【選択図】なし

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

半導体装置の製造には、半導体を実装するための再配線工程が存在する。再配線工程における最先端技術としては、例えば、FO-WLP(Fan Out-Wafer Level Package)がある。 通常、再配線工程は、工程材を支持基板上に積層した後、銅めっき等の金属シード層をスパッタ(スパッタリング)等で形成し、該金属シード層上に半導体再配線層を形成すること等により行う。しかし、製造する半導体装置のサイズが大型になる場合、絶縁材料から発生するアウトガス等により、スパッタ等で金属シード層を形成する際に不具合が発生し、該金属シード層を充分な強度で形成することができなくなるため、耐熱性や耐薬品性等に劣るものが製造されることで歩留まりの低下が生じることがあった。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示1は、接着シートであって、接着層と、基材と、金属層とをこの順に有し、接着シートは、接着層をガラスに貼り合わせ、ガラス側から波長365nmの光を積算光量3000mJ/cm2となるように照射し、更に、200℃で1時間加熱した後における、23℃でのガラスに対する180°剥離力が5N/25mm以上であり、接着シートは、接着層側から波長365nmの光を積算光量3000mJ/cm2とな・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、加熱工程による剥がれを防止することができる接着シートを提供することができる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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