特開2026-157287IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

微小な構造物に形成された繰り返しパターンを測定するためのＯＣＤ（Optical Critical Dimension）技術に関するものであり、特に分光を用いて段差を有するパターン形状を測定する測定装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】測定対象の繰り返しパターンの多様化に追従した測定を実現する。
【解決手段】測定装置（１）は、鉛直上方から投光された第１検査光が試料（１００）にて反射した第１反射光を受光する第１受光ヘッド（２２）と、斜め上方から投光された第２検査光が試料にて反射した第２反射光を受光する第２受光ヘッド（３２）と、プロセッサ（６０）と、を備え、第１受光ヘッドは、第１反射光の受光量を調整可能な第１シャッタ（２３）を有し、第２受光ヘッドは、第２反射光の受光量を調整可能な第２シャッタ（３３）を有し、プロセッサは、第１シャッタおよび第２シャッタのそれぞれに係る開閉量を制御する。
【選択図】図１

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、従前の形状に係る測定技術は、測定対象物に対する垂直方向、あるいは斜め方向のいずれかから検査光を投光するという、投光方向が１方向に限られた形であり、測定可能なパターン形状に制約が生じる可能性が高いものである。したがって、測定対象の繰り返しパターンの形状や寸法の多様化に対応した測定を行うことができない可能性もある。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するために、本開示の一態様に係る測定装置は、段差を有するパターン形状を測定する測定装置であって、前記パターン形状を有する試料が配置される測定台と、前記測定台の上面に対して平面視にて前記試料に重なるように前記試料の上方に配置され、前記試料に対して鉛直上方から第１検査光を投光する第１投光ヘッドと、前記第１検査光が前記試料にて反射した第１反射光を受光する第１受光ヘッドと、前記測定台・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一態様によれば、測定対象の繰り返しパターンの形状／寸法の多様化に追従した測定を実現できる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の一測定装置の構成の一例を示す図である。
【図2】 第１検査光および第２検査光を出射する光源の構成の例を示す図である。
【図3】 バンドルファイバの非分岐側導波路の構成の例を示す図である。
【図4】 バンドルファイバの分岐側導波路の構成の例を示す図である。
【図5】 試料におけるパターン形状の例を示す断面図である。
【図6】 測定ヘッドの変形例を示す図である。

選択図 図1出願人が指定した本件の代表的な図

１ 測定装置 １０ 測定台 １１ 上面 ２０、２０Ａ 測定ヘッド ２１ 第１投光ヘッド ２２ 第１受光ヘッド ２３ 第１シャッタ ３１ 第２投光ヘッド ３２ 第２受光ヘッド ３３ 第２シャッタ ４１ 第１ファイバ ４２ 第２ファイバ ４５ バンドルファイバ ５０ 分光器 ５５ スリット ６０ プロセッサ

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