特開2026-157293IP Force 特許公報全文掲載

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技術分野

半導体基板、液晶表示装置もしくは有機ＥＬ（Electro Luminescence）表示装置等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、セラミック基板、ウエハレベルパッケージ用基板、パネルレベルパッケージ用基板または太陽電池用基板等の基板を処理する基板処理装置

要約特許出願時に添付された[要約書]

【課題】高圧洗浄下での基板の破損を防止し、かつ、基板の搬送不良を低減することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】洗浄装置は、基板を搬送する搬送機構と、搬送機構により搬送される基板の上方から流体を高圧で吐出する高圧ノズルと、を備え、搬送機構が有する複数の搬送ローラの内、高圧ノズルと対向する位置に配置された搬送ローラである対向ローラ（２２）は、回転軸（２２ａ）と、回転軸に沿って互いに間隙を設けて取り付けられた複数のコロ部材（２２ｂ）とを有し、コロ部材の回転軸が伸びる方向における幅寸法が、間隙の幅寸法よりも大きい。
【選択図】図４

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献１に記載される構成では、回転軸方向における各ローラ間へ高圧で洗浄液を吐出するため、ローラに支持されていない箇所で基板に割れ等の破損が生じ得る。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するために、本開示の一態様に係る基板処理装置は、互いに平行に配列された複数の搬送ローラを有し、基板をその主面に沿った方向に搬送する搬送機構と、前記搬送機構により搬送される前記基板の上方から流体を高圧で吐出する高圧ノズルと、を備え、前記搬送機構が有する複数の搬送ローラの内、前記高圧ノズルと対向する位置に配置された搬送ローラを対向ローラとすると、前記対向ローラは、回転軸と、前記回・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一態様によれば、高圧洗浄下での基板の破損を防止し、かつ洗浄液等の流体のミストの流れによる基板の搬送不良を低減することができる基板処理装置を提供できる。

この発明についての権利主張の範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 実施形態１に係る基板処理システムの概略構成を示す上面図である。
【図2】 実施形態１に係る基板処理システムが備える制御部の構成の一例を示すブロック図である。
【図3】 基板処理装置の実施形態１に係る洗浄装置の構成の一例を示す図である。
【図4】 実施形態１に係る対向ローラの構成の一例を示す平面図である。
【図5】 実施形態２に係る一対の対向ローラの構成の一例を示す平面図である。

選択図 図4出願人が指定した本件の代表的な図

１２ 洗浄装置（基板処理装置） ２０ 搬送機構 ２１ 搬送ローラ ２２、２３、２４ 対向ローラ ２２ａ、２３ａ、２４ａ 回転軸 ２２ｂ、２３ｂ、２４ｂ コロ部材 ３０ センサ ６１ ＣＰＵ（プロセッサ） ６２ ＲＯＭ（メモリ） ６３ ＲＡＭ（メモリ） １２１ 高圧ノズル １２２ 上流側ノズル １２３ 下流側ノズル １２５ 処理槽 １２５ａ 基板搬入口 １２５ｂ 基板搬出口

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