特許7755772IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

新規なエルゴチオネイン誘導体及びその製造方法、当該誘導体を含む組成物、過酸化水素除去剤、並びに、細胞毒性抑制剤等

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明は、このような事情に照らし、新規なエルゴチオネイン誘導体及びその製造方法、当該誘導体を含む組成物、過酸化水素除去剤、並びに、細胞毒性抑制剤等を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明者らは、課題を解決するため鋭意検討した結果、以下に示す新規なエルゴチオネイン誘導体(下記式1で表される化合物又はその塩。)の創製に成功し、化合物により目的を達成できることを見出して、本発明を完成するに至った。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の化合物又はその塩ないしそれを含む組成物は、例えば、過酸化水素除去剤や細胞毒性抑制剤等として好適に用いることができる。

また、本発明の過酸化水素除去剤は、例えば、過酸化水素を好適に除去する作用を奏することができ得る。

また、本発明の細胞毒性抑制剤は、例えば、培地における過酸化水素に起因する細胞毒性の低減作用を奏することができ得る。

また、本発明の化合物の製造方法を用いることにより、化合物又はその塩等を簡便に得ることができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図1は、実施例1における、96時間加熱処理後のHPLC分析結果を示すグラフである。
【図2】 図2は、実施例1における、液体クロマトグラフィー高分解能質量分析(LC-HRMS)の測定結果を示すグラフである。
【図3】 図3は、実施例2における、残存過酸化水素量の評価結果を示すグラフである。
【図4】 図4は、実施例2における、残存過酸化水素量の評価結果を示す表である。
【図5】 図5は、実施例3における、HEK293細胞に対する過酸化水素細胞毒性の評価結果を示す写真図である。
【図6】 図6は、実施例3における、HEK293細胞に対する過酸化水素細胞毒性の評価結果を示すグラフである。
【図7】 図7は、実施例3における、HEK293細胞に対する過酸化水素細胞毒性の評価結果を示すグラフである。
【図8】 図8は、実施例3における、HEK293細胞に対する過酸化水素細胞毒性の評価結果を示す写真図である。

代表図 図1本件の代表的な図

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