特許 7758918出願番号 特願 2021-121666
プラズマ処理装置
公報発行日 2025年10月23
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技術分野
プラズマ処理装置
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
特許文献１に開示のプラズマ処理装置では、処理室の外部に直線状をなす複数のアンテナが並んで配置されている。アンテナに近いほどプラズマが強くなるため、プラズマ処理装置では、処理室に配置された被処理物にプラズマ処理を均一に行うことができないという問題がある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
の課題を解決するために、本発明の一態様に係るプラズマ処理装置は、被処理物を内部に収容する真空容器と、前記真空容器の外部に設けられ、高周波磁場を生じさせるアンテナと、前記真空容器の内部でプラズマを発生させるために、前記高周波磁場を前記真空容器の内部に導入させる、前記真空容器の壁面に設けられた磁場導入窓と、前記アンテナが前記高周波磁場を生じさせている状態で、前記アンテナを前記磁場導入窓に沿っ・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
本発明の一態様によれば、被処理物にプラズマ処理を均一に行うことができる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
本発明の実施形態１に係るプラズマ処理装置の断面構成を示す断面図である。
【図2】
図１に示すプラズマ処理装置の斜視図である。
【図3】
図２に示すプラズマ処理装置が備える機構部の連結部の断面構成を示す断面図である。
【図4】
本発明の実施形態２に係るプラズマ処理装置の断面構成を示す断面図である。
【図5】
本発明の実施形態３に係るプラズマ処理装置の斜視図である。
【図6】
本発明の実施形態３に係るプラズマ処理装置が備える機構部の連結部の断面構成を示す断面図である。
代表図 図1本件の代表的な図
１、１Ａ、１Ｂ プラズマ処理装置
２ 真空容器
３ 磁場導入窓
４ 金属板
５ 誘電体板
６ アンテナ
７、７Ａ 機構部
１０ 制御部
１１ 検出部
２２ 壁面
４１ スリット
８２～８５、Ａ１～Ａ６ アーム
Ｂ１ 筐体
Ｂ２、Ｂ３ 筐体（第１部材）
Ｃ１～Ｃ４、ＣＮ１、ＣＮ２ 連結部
Ｃ１１、Ｃ２１ 第１円板（第１部材）
Ｃ１２、Ｃ２２ 第２円板（第２部材、円板）
ＣＡ、ＣＢ、ＣＣ 円板
ＦＬ１ 流路
Ｇ１ ギャップ
Ｍ１、Ｍ２ モータ
Ｐ１ プラズマ
Ｗ１ 被処理物
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