特許7780180IP Force 特許公報全文掲載

ホーム > 特許ランキング > 国立大学法人横浜国立大学 > 特許7780180

技術分野

チタノシリケートとその製造方法、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

従来のチタノシリケートの製造方法は、アルミノシリケートに対して酸処理を行い、アルミニウムを除いて空いたサイトにチタンを修飾する考え方に基づいている。しかしながら、汎用性が高いＦＡＵ型アルミノシリケートに対して酸処理を行った場合、アルミニウム原子が除去されて空いたサイトには、チタンが到達する前にシリコンが入り込んでしまうため、チタンを修飾することが困難であった。そこで、酸処理後のチタン修飾を可能とする新規構造のゼオライトの導入が、複数検討されているが、それらのゼオライトは、製造するのが容易でないことが課題とされている。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

課題を解決するため、本発明は以下の手段を採用している。

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、容易に製造することが可能なゼオライトを基本骨格とし、触媒性能を有するチタノシリケートと、その製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、当該チタノシリケートを触媒とした、フェノール類の酸化方法、および二価フェノールの製造方法を提供することができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 アルミノシリケートに対し、チタン処理を行う装置の構成例を示す図である。
【図2】 チタン処理に伴う加熱条件を説明する図である。
【図3】 チタン処理後の焼成処理の加熱条件を説明する図である。
【図4】 実施例１～４のチタノシリケートについて、Ｘ線回折による分析を行った結果を示すグラフである。
【図5】 実施例５～７のチタノシリケートについて、Ｘ線回折による分析を行った結果を示すグラフである。
【図6】 実施例８のチタノシリケートについて、Ｘ線回折による分析を行った結果を示すグラフである。
【図7】 実施例１～４、比較例１のチタノシリケートに対する、ＤＲ／ＵＶ－ｖｉｓ測定結果を示すグラフである。
【図8】 実施例５～７、比較例１のチタノシリケートに対する、ＤＲ／ＵＶ－ｖｉｓ測定結果を示すグラフである。
【図9】 実施例１、５、７、８、比較例１のチタノシリケートに対する、ＤＲ／ＵＶ－ｖｉｓ測定結果を示すグラフである。
【図10】 実施例８のチタノシリケートについて、水蒸気吸着量の評価結果をリアルスケールで示すグラフである。
【図11】 実施例８のチタノシリケートについて、水蒸気吸着量の評価結果を片対数スケールで示すグラフである。

代表図 図1本件の代表的な図

１０ チタン処理装置 １１ 石英管 １２ 加熱器 １３ 温度コントローラー １４ チタン源の容器 １５ 不活性ガスの供給源 １６ 四方バルブ Ｓ 結晶

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります

Copyright © Science Impact Inc. All Rights Reserved.