特許 7851764出願番号 特願 2022-52404
プラズマ処理用マスクおよびプラズマ処理方法
出願人 富士通テン株式会社（識別番号 237592）
2026年 特許公開件数ランキング 119位 229件（※）
2026年 特許取得件数ランキング 203位 119件（※）
公報発行日 2026年4月27
公報URL https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7851764 ログイン済みの方はこのURLへ
［この特許公報を共有したい場合］あなたがログインしてこの特許公報を表示すれば、他の人はログインしなくてもこのURLで見ることができるようになります。
※ 共同出願を含む
知財ポータルサイト IP Force にログインすれば、この公報の全文を閲覧できます。 ログインはこちら ログイン・ユーザー登録
技術分野
処理対象物の表面コート層に対して改質及び除去の少なくとも一方を行うプラズマ処理
発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋
静電タッチパネルを含む表示パネルの表面には、指紋付着を防止する表面コート層が設けられている。表面コート層は、接着剤がつかない成分で構成されている。したがって、接着剤をつける部位では、表面コート層を取り除く必要がある。
課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋
例示的な本発明のプラズマ処理用マスクは、処理対象物のプラズマ処理領域に対応した開口部と、冷却用気体を流すための流路と、を備える。前記流路の流出口は、前記開口部に連通される。
発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋
例示的な本発明によると、処理対象物を破損させることなく且つ短時間で、処理対象物の表面（例えば処理対象物の表面コート層）に対して改質及び除去の少なくとも一方を行うことが可能となる。
この特許の権利範囲[特許請求の範囲]
知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)
この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋
【図1】
ベゼルを有する表示装置の部分断面図
【図2】
ベゼルを有さない表示装置の部分断面図
【図3】
第１プラズマ処理用マスクの上面図
【図4】
第１プラズマ処理用マスクの断面図
【図5】
第１プラズマ処理用マスクを用いたプラズマ処理方法の概略を示すフローチャート
【図6】
第１プラズマ処理用マスクを処理対象物に設置された状態を示す図
【図7】
プラズマヘッドから処理対象物のプラズマ処理領域にプラズマが照射されている状態を示す図
【図8】
プラズマヘッドの移動方向を示す図
【図9】
処理対象物が空冷されている状態を示す図
【図10A】
空冷が有る場合の処理対象物の温度特性と空冷が無い場合の処理対象物の温度特性とを示す図
【図10B】
空冷が有る場合の処理対象物の温度特性と空冷が無い場合の処理対象物の温度特性とを示す図
【図11】
冷却時間及び冷却用気体の流量と空冷後の処理対象物の温度との関係を示す図
【図12】
第２プラズマ処理用マスクの上面図
【図13】
第２プラズマ処理用マスクの断面図
代表図 図1本件の代表的な図
１、１０ プラズマ処理用マスク
２ 第１熱伝導部材
３ 第２熱伝導部材
４ ライナー
５ 開口部
６、７ 流路
６１、７１ 流出口
６２、７２ 流入口
６３、７３ 段差部
８ ヒートシンク
９ 処理対象物
９Ａ 液晶層
９Ｂ 静電タッチパネル
９Ｃ 反射防止用樹脂層
９Ｄ ガラス
９Ｅ 表面コート層
Ｐ１ プラズマヘッド
Ｐ２ プラズマ
全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録
［広告欄］
ログインすれば広告は減ります
ログインすれば広告は減ります