特許7866219IP Force 特許公報全文掲載

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除膜装置及び除膜方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、特許文献１に開示のプラズマ窒化装置の構造を、被処理物に形成された凹部の被覆膜を除去する除膜装置に適用する場合、凹部内で除去された被覆膜が凹部及び補助正極に付着するという問題がある。本開示の一態様は、被処理物に形成された凹部の被覆膜を十分に除去することを目的とする。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

の課題を解決するために、本開示の一態様に係る除膜装置は、被処理物を被覆する被覆膜を、プラズマによって前記被処理物から除去する除膜装置であって、前記被処理物を内部に収容する真空容器と、前記真空容器に絶縁部材を介して設けられたパイプ状の電極であって、前記真空容器の外部に配置された第１端と、前記被処理物に形成された凹部内に配置された第２端と、を有する電極と、前記第１端から前記電極の内部にガスを・・・　続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一態様によれば、被処理物に形成された凹部の被覆膜を十分に除去することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の実施形態１に係る除膜装置の構成を示す図である。
【図2】 本開示の実施形態２に係る除膜装置の構成を示す図である。
【図3】 図２に示す除膜装置のＡ－Ａ線断面図である。
【図4】 本開示の実施形態３に係る除膜装置の構成を示す図である。
【図5】 図４に示す除膜装置のＢ－Ｂ線断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

１ 真空容器 １Ｄ、１Ｅ 壁面 ２、２Ａ～２Ｅ 電極 ３、３Ａ～３Ｃ 絶縁部材 ４ ガス供給機構 ７ パルス電源 ８ 高周波電源 ９、９１～９３ コイル １１Ａ、１１Ｃ～１１Ｅ 高周波窓 １２Ａ、１２Ｃ～１２Ｅ アンテナ １６ 回転機構 ２１、２１Ａ～２１Ｃ 第１端 ２２、２２Ａ～２２Ｃ 第２端 １００～１０２ 除膜装置 Ａ１～Ａ４ 軸 Ｗ１、ＷＡ～ＷＥ 被処理物 Ｗ２、ＷＡ２～ＷＥ２ 凹部

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