特許7896978IP Force 特許公報全文掲載

ホーム > 特許ランキング > インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション > 特許7896978

技術分野

半導体集積回路の製造に関し、より詳細には、集積回路内の電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）デバイスの形成

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

知財ポータルサイト IP Force にログインして確認する (無料)

この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 例示的な１つまたは複数の実施形態による、第１の中間製造段階における半導体構造体の上面図である。
【図2】 図１の線２－２に沿って切った、第１の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図3】 第２の中間製造段階における半導体構造体の上面図である。
【図4】 図３の線４－４に沿って切った、第２の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図5】 第３の中間製造段階における半導体構造体の断面図である。
【図6】 第４の中間製造段階における半導体構造体の断面図である。
【図7】 第５の中間製造段階における半導体構造体の断面図である。
【図8】 第６の中間製造段階における半導体構造体の上面図である。
【図9】 図８の線９－９に沿って切った、第６の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図10】 図８の線１０－１０に沿って切った、第６の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図11】 図８の線１１－１１に沿って切った、第６の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図12】 第７の中間製造段階における半導体構造体の上面図である。
【図13】 図１２の線１３－１３に沿って切った、第７の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図14】 図１２の線１４－１４に沿って切った、第７の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図15】 図１２の線１５－１５に沿って切った、第７の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図16】 第８の中間製造段階における半導体構造体の上面図である。
【図17】 図１６の線１７－１７に沿って切った、第８の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図18】 図１６の線１８－１８に沿って切った、第８の中間段階における半導体構造体の断面図である。
【図19】 図１６の線１９－１９に沿って切った、第８の中間段階における半導体構造体の断面図である。

代表図 図1本件の代表的な図

全ての図面はログインすると無料で閲覧できます。ログイン・ユーザー登録

［広告欄］

ログインすれば広告は減ります

ログインすれば広告は減ります

Copyright © Science Impact Inc. All Rights Reserved.