特許 7920312出願番号特願 2024-562736
レジスト組成物及びその製造方法

出願人株式会社日本触媒（識別番号 4628）

2026年特許公開件数ランキング 445位 53件（※）

2026年特許取得件数ランキング 223位 101件（※）

公報発行日　2026年9月14

公報URL　https://ipforce.jp/patent-jp-P_B1-7920312　ログイン済みの方はこのURLへ

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※ 共同出願を含む

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レジスト組成物及びその製造方法

しかし、非特許文献１に記載のレジスト組成物では感度が不十分であり、レジスト膜（レジストパターン）を形成するためには、十分な露光を行う必要があった。

本発明者は課題を解決するため鋭意検討した結果、有機スズ化合物と所定の有機ホウ素化合物とを含有するレジスト組成物とすることによって、感度が高く、低露光量でパターン形成が可能となることを見出し、本発明に到達した。

本開示のレジスト組成物を用いることによって、感度が高く、低露光量でパターン形成が可能となる。

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