特許7926385IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

基板に所定の処理を行う基板処理装置および基板処理方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

のように、受渡装置は、複数の支持ピン上に基板が指示された状態で、その基板を上下方向に移動させる。各支持ピンは基板を搬送する搬送ロボットの基板保持部(ハンド)等に比べて低い剛性を有する。そのため、各支持ピンは、ピン連結部材を上下動させる駆動部で発生する振動、または受渡装置の近傍で発生する振動等の影響を受けて振動しやすい。この場合、上側保持装置と下側保持装置との間で基板が搬送される際に、基板があるべき位置からずれる可能性がある。また、の受渡装置は、複数の支持ピンが上下方向に移動することにより基板を移動させる。しかしながら、受渡装置は、複数の支持ピンを水平方向に移動させる構成を有しない。そのため、例えば受渡装置による基板の受取時に基板に水平方向の位置ずれが発生していると、当該受渡装置においてその位置ずれを解消することはできない。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一局面に従う基板処理装置は、処理ユニットと、基板を保持する保持部を有し、前記保持部を移動させることにより前記処理ユニットに対する基板の搬入および基板の搬出が可能に構成された搬送装置とを備え、前記処理ユニットは、開口部を有しかつ第1の処理位置および第2の処理位置を含む処理空間を形成するチャンバと、前記チャンバ内に収容されかつ前記第1の処理位置に配置された処理前の基板に第1の処理を行う第・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明によれば、位置ずれに起因する基板の処理不良の発生を抑制することが可能になる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 第1の実施の形態に係る基板処理装置の模式的平面図である。
【図2】 図1のJ-J線における基板処理装置の模式的断面図である。
【図3】 図1のハンドの平面図である。
【図4】 図1のハンドの側面図である。
【図5】 図1の基板洗浄装置の模式的平面図である。
【図6】 図5の基板洗浄装置の内部構成を示す外観斜視図である。
【図7】 図1の基板処理装置の制御系統の構成を示すブロック図である。
【図8】 基板洗浄装置における第1の処理位置および第2の処理位置を説明するための図である。
【図9】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図10】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図11】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図12】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図13】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図14】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図15】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図16】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図17】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図18】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図19】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図20】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図21】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図22】 図5の基板洗浄装置および図1のメインロボットの動作の一例を説明するための模式図である。
【図23】 図7の制御装置による一の基板についての基板処理を示すフローチャートである。
【図24】 図7の制御装置による一の基板についての基板処理を示すフローチャートである。
【図25】 第2の実施の形態に係る基板処理装置の制御系統の構成を示すブロック図である。

代表図 図1本件の代表的な図

1…基板洗浄装置,2…ユニット筐体,2a…底面部,2b~2e…側壁部,2x…搬入搬出口,10A,10B…上側保持装置,11A,11B…下チャック,12A,12B…上チャック,13A,13B…下チャック駆動部,14A,14B…上チャック駆動部,20…下側保持装置,21…吸着保持部,22…吸着保持駆動部,30…台座装置,31…リニアガイド,32…可動台座,33…台座駆動部,50…下面洗浄装置,51…下面ブラシ,52…液ノズル,53…気体噴出部,54…昇降支持部,54u…上面,55…移動支持部,55a…下面ブラシ回転駆動部,55b…下面ブラシ昇降駆動部,55c…下面ブラシ移動駆動部,56…下面洗浄液供給部,57…噴出気体供給部,60…カップ装置,61…処理カップ,62…カップ駆動部,70…上面洗浄装置,71…回転支持軸,72…アーム,73…スプレーノズル,74…上面洗浄駆動部,75…上面洗浄流体供給部,80…端部洗浄装置,81…回転支持軸,82…アーム,83…ベベルブラシ,84…ベベルブラシ駆動部,90…開閉装置,91…シャッタ,92…シャッタ駆動部,100…基板処理装置,110…インデクサブロック,120…処理ブロック,140…キャリア載置台,150…搬送部,161…洗浄部,162…洗浄部,163…搬送部,170…制御装置,171…チャック制御部,172…吸着制御部,173…台座制御部,175…下面洗浄制御部,176…カップ制御部,177…上面洗浄制御部,178…ベベル洗浄制御部,179…搬入搬出制御部,180…搬送制御部,181…搬送制御部,182…位置情報記憶部,183…修正部,200…インデクサロボット,210…ハンド支持部材,220…搬送駆動部,300…メインロボット,310…ハンド支持部材,320…搬送駆動部,331…ハンドベース部,332,333…ハンドアーム部,341~343…支持片,350…固定装置,390…ハンド位置検出装置,C…キャリア,Ia~Id,Ma~Md…ハンド,P1…第1の処理位置,P2…第2の処理位置,PASS1,PASS2…基板載置部,W…基板,rp…平面基準位置

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