特許7927524IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

この発明は、例えば半導体基板、半導体パッケージ基板、プリント配線基板、ガラス基板等の基板に変調光ビームを入射させて基板を露光する技術

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

この種の露光装置では、基板表面を所望のパターンで精度よく露光するために、主走査移動における移動速度が一定となっている期間に露光が行われる。言い換えれば、移動が停止した状態から一定速度に達するまでの期間および一定速度から移動停止するまでの期間については露光が行われない。このことが露光処理のタクトタイムの向上を図る上での制約条件となっている。特に、のように主走査移動と副走査移動とを繰り返して露光を行う場合には、1回の主走査移動ごとに加速期間と減速期間とが必要になるため、これらの期間がタクトタイムに及ぼす影響が大きい。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本発明の一の態様は、変調した光ビームを露光対象となる基板に入射させて前記基板を露光する露光方法であって、前記光ビームを出力する露光部と前記基板を保持する基板保持部とを相対移動させることで前記基板に対する前記出力光ビームの入射位置を走査し、前記相対移動に伴って発生する信号に基づき、前記露光部と前記基板保持部との相対移動速度を求め、前記光ビームの光量を所定の制御周期で動作する光変調器により多段階・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

のように、本発明によれば、露光部と基板との相対移動速度が求められ、その結果に応じて光ビーム変調における制御周期と光ビームの最大光量とが変更される。これにより、相対移動速度が一定でない加速および減速期間においても、描画品質を低下させることなく露光を行うことができる。こうして加速および減速期間の少なくとも一部においても露光を行うことで、露光処理のタクトタイムを短縮することができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本発明にかかる露光装置の概略構成を模式的に示す正面図である。
【図2】 露光装置が備える電気的構成の一例を示すブロック図である。
【図3】 露光ヘッドが備える詳細構成の一例を模式的に示す図である。
【図4】 ステージの主走査移動における速度プロファイルの例を示す図である。
【図5】 本実施形態の露光装置における動作を説明するための図である。
【図6】 ステージ速度とクロック周波数との関係を示す図である。
【図7】 分周比の変更に対応するための露光データ処理を説明するための図である。
【図8】 本実施形態の露光動作におけるデータ処理の概念を示すブロック図である。
【図9】 光変調器の入力階調と出力階調との関係の一例を示す図である。
【図10】 パラメーター加工部が有する参照テーブルの一例を示す図である。
【図11】 この露光装置により実行される処理を示すフローチャートである。

代表図 図1本件の代表的な図

1 露光装置 2 ステージ(基板保持部) 3 ステージ駆動機構(走査移動部) 9 制御部(変調制御部) 40 光照射部(光源) 41 露光ヘッド(露光部) 311 リニアスケール(信号出力部) 410 光変調器 911 露光データ生成部 912 露光制御部(変調制御部) 912c 参照テーブル(テーブル) L レーザー光ビーム Le 露光ビーム(光ビーム) S 基板

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