特許7928535IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

電子装置、量子コンピュータ及び電子装置の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

しかしながら、2次元トポロジカル絶縁体に超伝導体を接触させた場合、十分な超伝導近接効果を得ることができない。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の一形態によれば、単層の第1層状金属カルコゲナイドであって、第1領域及び第2領域を有する第1膜と、前記第2領域に重なり、単層又は2層以上の第2層状金属カルコゲナイドである第2膜と、前記第2領域の前記第1膜の側壁面と前記第2膜の側壁面の両方に接触する電極と、を有し、前記第1層状金属カルコゲナイドは、1T´-WTe 2 ・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示によれば、電極と2次元トポロジカル絶縁体との間に良好な接合を得ることができる。

この特許の権利範囲[特許請求の範囲]

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 図1は、第1電子装置を示す断面図である。
【図2】 図2は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その1)である。
【図3】 図3は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その2)である。
【図4】 図4は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その3)である。
【図5】 図5は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その4)である。
【図6】 図6は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その5)である。
【図7】 図7は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その6)である。
【図8】 図8は、第1電子装置の製造方法を示す断面図(その7)である。
【図9】 図9は、第2電子装置を示す断面図である。
【図10】 図10は、第2電子装置の製造方法を示す断面図(その1)である。
【図11】 図11は、第2電子装置の製造方法を示す断面図(その2)である。
【図12】 図12は、第2電子装置の製造方法を示す断面図(その3)である。
【図13】 図13は、第3電子装置を示す断面図である。
【図14】 図14は、第3電子装置の製造方法を示す断面図(その1)である。
【図15】 図15は、第3電子装置の製造方法を示す断面図(その2)である。
【図16】 図16は、第3電子装置の製造方法を示す断面図(その3)である。
【図17】 図17は、第4量子デバイスを示す上面図である。
【図18】 図18は、第4量子デバイスを示す断面図である。
【図19】 図19は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その1)である。
【図20】 図20は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その2)である。
【図21】 図21は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その3)である。
【図22】 図22は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その4)である。
【図23】 図23は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その5)である。
【図24】 図24は、第4量子デバイスの製造方法を示す断面図(その6)である。
【図25】 図25は、第4量子デバイスの製造方法を示す上面図(その1)である。
【図26】 図26は、第4量子デバイスの製造方法を示す上面図(その2)である。
【図27】 図27は、第4量子デバイスの製造方法を示す上面図(その3)である。
【図28】 図28は、第4量子デバイスの製造方法を示す上面図(その4)である。
【図29】 図29は、第4量子デバイスの製造方法を示す上面図(その5)である。
【図30】 図30は、第5量子デバイスを示す上面図である。
【図31】 図31は、第5量子デバイスを示す断面図である。
【図32】 図32は、第6電子装置を示す断面図である。
【図33】 図33は、第7電子装置を示す断面図である。
【図34】 図34は、第8電子装置を示す断面図である。
【図35】 図35は、第9量子コンピュータを示す図である。

代表図 図1本件の代表的な図

1、2、3、6、7、8:電子装置 4、5:量子デバイス 9:量子コンピュータ 10:基板 21:第1保護層 22:第2保護層 23、523:トポロジカル絶縁体層 23E:縁 24:凹部 25、26、27、28:開口部 30:電極 41:第1膜 41A:第1領域 41B:第2領域 41C:第3領域 42:第2膜 43:第3膜 45、46:積層体 141、142:磁性体層 430、531、532、631:超伝導体層 632:常伝導体層

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