特許7932096IP Force 特許公報全文掲載

技術分野

本開示の蒸着マスク及の中間製品の製造方法

発明が解決しようとする課題[発明の詳細な説明]から抜粋

基板に形成される画素の位置精度を決める要因として、基板又はフレームに対する蒸着マスクの位置合わせの精度を挙げることができる。位置合わせの際の蒸着マスクの基準位置としては、例えば、蒸着マスクの外形の輪郭が用いられる。蒸着マスクの輪郭の位置は、例えば、カメラなどを用いて蒸着マスクを撮影することによって検出される。

課題を解決するための手段[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の第1の蒸着マスクの中間製品の製造方法であって、金属板を加工して、前記金属板に、複数の貫通孔が形成された複数の蒸着マスク部分と、平面視において前記蒸着マスク部分を囲むとともに前記蒸着マスク部分に部分的に接続されている支持部分と、を形成する加工工程と、前記蒸着マスク部分を前記金属板から分離する分離工程と、を備え、前記蒸着マスク部分は、前記貫通孔が形成された第1面及び第2面と、・・・ 続きを知財ポータルサイト IP Force にログインして見る

発明の効果[発明の詳細な説明]から抜粋

本開示の実施形態によれば、蒸着マスクの輪郭を精度良く検出することができる。

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この特許公報に記載されている図面[図面の簡単な説明]から抜粋

【図1】 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を備えた蒸着装置を示す図である。
【図2】 図1に示す蒸着マスク装置を用いて製造した有機EL表示装置を示す断面図である。
【図3】 本開示の一実施形態による蒸着マスク装置を示す平面図である。
【図4】 蒸着マスクを示す斜視図である。
【図5】 図3に示された蒸着マスクの有効領域を示す部分平面図である。
【図6】 図5のVI-VI線に沿った断面図である。
【図7】 図5のVII-VII線に沿った断面図である。
【図8】 図5のVIII-VIII線に沿った断面図である。
【図9】 図5に示す貫通孔およびその近傍の領域を拡大して示す断面図である。
【図10】 図4のX-X線に沿った断面図である。
【図11】 蒸着マスクを第1面側から見た場合を示す平面図である。
【図12】 蒸着マスクを第2面側から見た場合を示す平面図である。
【図13】 蒸着マスクの製造方法の一例を全体的に説明するための模式図である。
【図14】 金属板上にレジスト膜を形成する工程を示す図である。
【図15】 レジスト膜に露光マスクを密着させる工程を示す図である。
【図16】 レジスト膜を現像する工程を示す図である。
【図17】 第1面エッチング工程を示す図である。
【図18】 第1凹部を樹脂によって被覆する工程を示す図である。
【図19】 第2面エッチング工程を示す図である。
【図20】 図19に続く第2面エッチング工程を示す図である。
【図21】 金属板から樹脂及びレジストパターンを除去する工程を示す図である。
【図22A】 金属板を加工することによって得られた中間製品を示す平面図である。
【図22B】 図22Aの中間製品のうち符号XXIIBが付された点線で囲われた領域を拡大して示す図である。
【図23】 蒸着マスク部分を支持部分から分離する工程を示す図である。
【図24】 中間製品から得られた蒸着マスクを拡大して示す平面図である。
【図25】 蒸着マスク装置を作製する工程を示す図である。
【図26】 蒸着マスクの長側面の一変形例を示す断面図である。
【図27】 実施例1に係る蒸着マスクの長側面の断面の観察結果を示す図である。
【図28A】 図27に示す蒸着マスクを第1面側から観察した結果を示す図である。
【図28B】 図27に示す蒸着マスクを第2面側から観察した結果を示す図である。
【図29A】 実施例2に係る蒸着マスクの長側面の断面の観察結果を示す図である。
【図29B】 図29Aに示す長側面の第2部分を拡大して示す断面図である。
【図30】 実施例3に係る蒸着マスクの長側面の断面の観察結果を示す図である。

代表図 図1本件の代表的な図

10 蒸着マスク装置 15 フレーム 20 蒸着マスク 20a 第1面 20b 第2面 21 基材 22 有効領域 23 周囲領域 25 貫通孔 26 長側面 261 第1部分 262 第2部分 27 短側面 30 第1凹部 31 壁面 35 第2凹部 36 壁面 41 孔接続部 43 トップ部 50 中間製品 51 蒸着マスク部分 54 接続箇所 55 隙間 56 支持部分 64 金属板 65a 第1レジストパターン 65b 第2レジストパターン 65c 第1レジスト膜 65d 第2レジスト膜 70 加工装置 72 搬送ローラー 73 分離装置 90 蒸着装置 92 有機EL基板 98 蒸着材料

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