タッチ構造であって、
第１タッチ電極及び第２タッチ電極を含み、
前記第１タッチ電極は第１方向に沿って延在し、前記第２タッチ電極は第２方向に沿って延在し、前記第１方向と前記第２方向は異なり、
前記第１タッチ電極は前記第１方向に沿って順に配置される複数の第１電極本体部と、隣接する２つの第１電極本体部を電気的に接続する第１接続部とを含み、前記複数の第１電極本体部は第１導電層に位置し、前記第１接続部は前記第１導電層と異なる第２導電層に位置し、
前記第２タッチ電極は前記第２方向に沿って順に配置される第２電極本体部と、隣接する２つの第２電極本体部を電気的に接続する第２接続部とを含み、前記複数の第２電極本体部と前記第２接続部はいずれも前記第１導電層に位置し、
前記第１導電層と前記第２導電層は絶縁層により絶縁されており、前記第１接続部と前記第２接続部は前記第１導電層に垂直な方向において重なり、
前記第１導電層は複数の第１金属線により形成される複数の第１金属メッシュを含み、前記複数の第１電極本体部のそれぞれ、前記複数の第２電極本体部のそれぞれ及び前記第２接続部はそれぞれ前記複数の第１金属メッシュを含み、
前記第２導電層は複数の第２金属線を含み、
前記タッチ構造は前記第２導電層に位置する仮想電極をさらに含み、前記仮想電極は前記第１タッチ電極及び前記第２タッチ電極といずれも絶縁されており、
前記仮想電極は前記第１接続部及び前記第２接続部のうちの少なくとも１つに結合されるように構成される、
タッチ構造。 前記仮想電極の面積はＳ１であり、前記仮想電極の前記第１導電層での射影と前記第１導電層における第１金属線とにより定義されたいずれか１つのメッシュの網孔の面積はＳ２であり、
ａ＜Ｓ１／Ｓ２＜ｂ
を満たし、
ここで、０．０５＜ａ＜０．２、０．１＜ｂ＜０．３であり、ａ＜ｂである、
請求項１に記載のタッチ構造。 少なくとも１つの第１金属線の延在方向は前記仮想電極の延在方向と同じであり、且つ、前記第１導電層に垂直な方向において、前記仮想電極は前記少なくとも１つの第１金属線と重なる、
請求項１又は２に記載のタッチ構造。 前記仮想電極は矩形であり、前記仮想電極の長さと幅はそれぞれＸ_ＤとＹ_Ｄであり、
前記いずれか１つのメッシュの網孔は矩形であり、前記網孔の長さと幅はそれぞれＸとＹであり、
ａ＜（Ｘ_Ｄ×Ｙ_Ｄ）／（Ｘ×Ｙ）＜ｂ
を満たし、
ここで、０．０５＜ａ＜０．２、０．１＜ｂ＜０．３であり、ａ＜ｂである、
請求項２に記載のタッチ構造。 前記仮想電極は互いに接続されるｎ個の矩形を含み、前記ｎ個の矩形の長さはそれぞれＸ１、Ｘ２…Ｘｎであり、幅はいずれもＹ_Ｄであり、ｎが１より大きい整数であり、
前記いずれか１つのメッシュの網孔は矩形であり、前記網孔の長さと幅はそれぞれＸとＹであり、
ａ＜（Ｘ_Ｄ×Ｙ_Ｄ）／（Ｘ×Ｙ）＜ｂ
を満たし、
ここで、Ｘ_Ｄ＝Ｘ１＋Ｘ２＋…＋Ｘｎであり、０．０５＜ａ＜０．２、０．１＜ｂ＜０．３であり、ａ＜ｂである、
請求項２又は４に記載のタッチ構造。 前記仮想電極と前記第１接続部はそれぞれ少なくとも１つの第２金属線を含み、
前記第１接続部は少なくとも１つの第１接続線を含み、
各第１接続線は少なくとも１つの第２金属線を含み、且つ前記絶縁層におけるビアによって、前記隣接する２つの第１電極本体部に電気的に接続される、
請求項１～５のいずれか１項に記載のタッチ構造。 各前記第１接続線はそれぞれ前記第１導電層に垂直な方向において、前記第２接続部における同じ延在方向の１つの第１金属線と重なる、
請求項６に記載のタッチ構造。 前記第１接続部は複数の第１接続線を含み、
前記仮想電極は前記複数の第１接続線のうちのいずれか２つの間に位置する、
請求項６又は７に記載のタッチ構造。 前記仮想電極の前記第１導電層での正射影と前記第２接続部は少なくとも部分的に重なる、
請求項６～８のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記仮想電極における少なくとも１つの第２金属線のそれぞれは前記第１導電層に垂直な方向において、前記第２接続部における同じ延在方向の１つの第１金属線と重なる、
請求項６～９のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記第２接続部における前記仮想電極と重なる第１金属線は、隣接する第１電極本体部における第１金属線と、隙間により絶縁されており、
前記仮想電極はさらに前記隙間を覆い、前記第１導電層に垂直な方向において前記隣接する第１電極本体部における第１金属線と重なる、
請求項１０に記載のタッチ構造。 前記タッチ構造は複数の前記仮想電極を含み、
前記第１接続部は前記第１方向に沿って延在する複数の第１接続線を含み、
前記複数の仮想電極と前記複数の第１接続線は前記第２方向において交互に配列されている、
請求項６～１１のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記仮想電極は互いに接続される複数の第２金属線を含み、前記複数の第２金属線は同一直線上にあり、
前記複数の第２金属線はそれぞれ第３方向に沿って延在し、前記仮想電極は隣接する２つの第２金属線の接続点から第４方向に沿って延在する分岐部をさらに含み、前記分岐部は前記第１導電層に垂直な方向において前記第２接続部における前記第４方向に沿って延在する第１金属線と重なり、前記第４方向が前記第３方向と異なる、
請求項６～１２のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記仮想電極は互いに接続される複数の第２金属線を含み、
前記複数の第２金属線のうちの隣接する２つの第２金属線はそれぞれ異なる直線上にある、
請求項１３に記載のタッチ構造。 前記仮想電極は互いに接続される複数の第２金属線を含み、
前記複数の第２金属線のそれぞれは前記第２接続部における１つの第１金属メッシュに対応し、且つ対応する前記１つの第１金属メッシュにおける同じ延在方向の第１金属線と重なり、前記仮想電極の面積はＳ１であり、
前記仮想電極の複数の第２金属線に対応するいずれか１つの第１金属メッシュの網孔の面積はＳ２であり、
ａ＜Ｓ１／Ｓ２＜ｂ
を満たし、
ここで、０．０５＜ａ＜０．２、０．１＜ｂ＜０．３であり、ａ＜ｂである、
請求項１３又は１４に記載のタッチ構造。 前記仮想電極と前記隣接する２つの第１電極本体部のうちの少なくとも１つは前記第１導電層に垂直な方向において少なくとも部分的に重なる、
請求項６～１５のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記仮想電極と前記隣接する２つの第２電極本体部のうちの少なくとも１つは前記第１導電層に垂直な方向において少なくとも部分的に重なる、
請求項６～１６のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記タッチ構造は折り曲げ可能エリアを含み、前記第１接続部は前記折り曲げ可能エリアに位置する折り曲げ部を含み、前記折り曲げ部は少なくとも１つの第２金属線を含み、前記少なくとも１つの第２金属線に孔が設置され、前記孔径は前記第２金属線の線幅の２５％～９０％である、
請求項１～１７のいずれか１項に記載のタッチ構造。 前記第１接続部は複数の第２金属線を接続して形成した多角形を含み、前記多角形の少なくとも一部は前記折り曲げ部とされ、
前記複数の第２金属線はそれぞれ前記第１導電層に垂直な方向において前記複数の第１金属線と重なる、
請求項１８に記載のタッチ構造。 前記第１接続部はそれぞれ前記多角形の複数の頂点に接続される複数の第２金属メッシュをさらに含み、
前記複数の第２金属メッシュはそれぞれ前記第１導電層に垂直な方向において前記第２接続部における複数の第１金属メッシュと重なり、
前記絶縁層における対応する各第２金属メッシュの頂点にいずれもビアが設置され、前記第２金属メッシュにおける第２金属線は前記ビアによって前記第１接続部に隣接する第１電極本体部に電気的に接続される、
請求項１９に記載のタッチ構造。 タッチ表示パネルであって、
ベース基板と、
表示構造と、
請求項１～２０のいずれか１項に記載のタッチ構造と、を含み、
前記表示構造と前記タッチ構造は前記ベース基板に積層設置される、
タッチ表示パネル。 前記表示構造は画素画定層と、アレイ状に配列される複数のサブ画素とを含み、
前記複数のサブ画素のそれぞれは発光素子と、前記発光素子を駆動する画素回路とを含み、前記発光素子は第１電極、発光層及び第２電極を含み、前記発光層は前記第１電極と前記第２電極との間に位置し、前記第１電極は前記第２電極の前記ベース基板に近い側に位置し、
前記画素画定層は前記発光素子の第１電極を露出させる開口を含み、それにより前記サブ画素の画素開口エリアを定義し、
前記複数の第１金属線と前記複数の第２金属線の前記ベース基板での正射影はいずれも前記複数のサブ画素の複数の画素開口エリアの前記ベース基板での正射影の外に位置する、
請求項２１に記載のタッチ表示パネル。 各第１金属メッシュの網孔の前記ベース基板での正射影は少なくとも１つの画素開口エリアの前記ベース基板での正射影を覆う、
請求項２２に記載のタッチ表示パネル。 前記画素回路は蓄積コンデンサを含み、前記仮想電極と蓄積コンデンサの少なくとも１つの蓄積電極は少なくとも部分的に重なる、
請求項２２又は２３に記載のタッチ表示パネル。 前記発光素子の第１電極は前記画素回路に電気的に接続され、
前記仮想電極、前記発光素子の第１電極、前記蓄積電極はベース基板に垂直な方向において互いに重なる、
請求項２４に記載のタッチ表示パネル。 前記表示構造は前記画素画定層の前記ベース基板から離れた側に設置されるスペーサをさらに含み、
前記仮想電極と前記スペーサは前記ベース基板に垂直な方向において少なくとも部分的に重なる、
請求項２２～２５のいずれか１項に記載のタッチ表示パネル。 前記仮想電極と前記第１接続部は第２金属線における断口により絶縁されており、
前記断口は前記第２金属線を第１部分及び第２部分に分離し、前記第１部分は前記仮想電極に属し、前記第２部分は前記第１接続部に属し、
前記第２金属線の平均長さＸ_Ｄ、平均幅Ｙ_Ｄ、前記断口の寸法Ｘ_ＤＧａｐ、隣接する画素開口エリアの間隔Ｓ_Ｇａｐは、
０＜Ｙ_Ｄ／Ｓ_Ｇａｐ＜０．２、
０．１＜Ｘ_ＤＧａｐ／Ｘ＜０．５
を満たす、
請求項２２～２６のいずれか１項に記載のタッチ表示パネル。 前記第１電極本体部と、隣接する第２タッチ電極は第１金属線における断口により絶縁されており、
前記断口は前記第１金属線を第１部分及び第２部分に分離し、前記第１部分は前記第１電極本体部に属し、前記第２部分は前記第２タッチ電極に属し、
前記第１金属線の平均長さＸ_Ｄ、平均幅Ｙ_Ｄ、前記断口の寸法Ｘ_ＤＧａｐ、隣接する画素開口エリアの間隔Ｓ_Ｇａｐは、
０＜Ｙ_Ｄ／Ｓ_Ｇａｐ＜０．２、
０．１＜Ｘ_ＤＧａｐ／Ｘ＜０．５
を満たす、
請求項２２～２７のいずれか１項に記載のタッチ表示パネル。 前記複数のサブ画素は第１サブ画素を含み、前記第１サブ画素は第１色の光を発するように構成され、前記第１サブ画素の発光素子の発光層の前記ベース基板での正射影の面積はＳ３であり、
前記第１サブ画素の画素開口エリアの前記ベース基板での正射影は前記複数の第１金属メッシュにおける１つの網孔の前記ベース基板での正射影内に位置し、前記第１金属メッシュの網孔の面積はＳ４である、
請求項２２～２８のいずれか１項に記載のタッチ表示パネル。 前記第１サブ画素が緑色サブ画素又は赤色サブ画素である場合、
０＜Ｓ４／Ｓ３＜０．８
であり、
前記第１サブ画素が青色サブ画素である場合、
０．９＜Ｓ４／Ｓ３＜１
である、
請求項２９に記載のタッチ表示パネル。 前記第１サブ画素の発光素子の発光層の前記ベース基板での正射影は矩形であり、長さＸ_ＦＭＭ及び幅Ｙ_ＦＭＭを有し、
前記第１金属メッシュの網孔は長さＸ及び幅Ｙを有し、
前記第１サブ画素が緑色サブ画素又は赤色サブ画素である場合、
０＜Ｘ／Ｘ_ＦＭＭ＜０．９、
０＜（Ｘ×Ｙ）／（Ｘ_ＦＭＭ×Ｙ_ＦＭＭ）＜０．８
を満たし、
前記第１サブ画素が青色サブ画素である場合、
０．９５＜Ｘ／Ｘ_ＦＭＭ＜１、
０．９＜（Ｘ×Ｙ）／（Ｘ_ＦＭＭ×Ｙ_ＦＭＭ）＜１
を満たす、
請求項３０に記載のタッチ表示パネル。 前記発光素子の第１電極は本体部及び延在部を含み、
前記本体部と前記発光素子の属するサブ画素の画素開口エリアは前記ベース基板に垂直な方向において重なり、前記延在部と前記サブ画素の画素開口エリアは前記ベース基板に垂直な方向において重なっておらず、且つ前記延在部は前記サブ画素の画素回路に電気的に接続される、
請求項２２～３１のいずれか１項に記載のタッチ表示パネル。 前記複数のサブ画素は第１サブ画素、第２サブ画素及び第３サブ画素を含み、前記第１サブ画素、前記第２サブ画素及び前記第３サブ画素は異なる色の光を発するように構成され、
前記第１サブ画素、前記第２サブ画素、前記第３サブ画素の画素開口エリアの面積は順に減少する、
請求項３２に記載のタッチ表示パネル。 前記第１サブ画素の発光素子の第１電極の延在部と前記第１導電層は前記ベース基板に垂直な方向において重なり、第１重なり面積を有し、
前記第２サブ画素の発光素子の第１電極の延在部と前記第１導電層は前記ベース基板に垂直な方向において重なり、第２重なり面積を有し、
前記第３サブ画素の発光素子の第１電極の延在部と前記第１導電層は前記ベース基板に垂直な方向において重なり、第３重なり面積を有し、
前記第３重なり面積は前記第１重なり面積及び前記第２重なり面積のうちの少なくとも１つより大きい、
請求項３３に記載のタッチ表示パネル。 請求項１～２０のいずれか１項に記載のタッチ構造又は請求項２１～３４のいずれか１項に記載のタッチ表示パネルを含む、
電子装置。