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ＥＢＡＲＡ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ商標一覧

2024年11月22日更新

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商標ランキング2011年 110位(12件) 　前年 119位(8件)
総区分数17区分1商標あたりの平均区分数1.42区分
類似群コード最頻出09C01 (出現率58%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ11類 & 7類 (出現率17%)
指定商品・指定役務総数331商標あたりの平均数3
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位セー (出現率50%)
2位エナ (出現率33%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位セプ (出現率50%)
1位セー (出現率50%)
2位エプ (出現率33%)

ＥＢＡＲＡ ＣＯＲＰＯＲＡＴＩＯＮ2011年の商標登録

12件
直近の商標登録(2024年11月22日発行公報)：商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務		 類似群コード
登録5438843
登録日：2011年9月16日
商標ランキング 出願から18ヵ月
出願日：2010年3月10日
商願2010-18203
 商標登録5438843
ジイシイアアル
 7類
半導体製造過程・液晶製造過程・ＬＥＤ製造過程・太陽電池セル製造過程・フッ素樹脂製造過程において使用される排ガス処理装置 化学機械器具用排ガス処理装置・その他の化学機械器具 半導体製造装置用排ガス処理装置 液晶関連製造装置用排ガス処理装置
11類
排ガス処理装置 産業用排ガス処理装置
09A06(第7類) 09A68(第7類) 09A06(第11類) 09A99(第11類) 09E11(第11類) 続く
登録5437303
登録日：2011年9月9日
商標ランキング 出願から18ヵ月
出願日：2010年3月10日
商願2010-18202
 商標登録5437303
ジイデイシイ
 7類
半導体製造過程・液晶製造過程・ＬＥＤ製造過程・太陽電池セル製造過程・フッ素樹脂製造過程において使用される排ガス処理装置 化学機械器具用排ガス処理装置・その他の化学機械器具 半導体製造装置用排ガス処理装置 液晶関連製造装置用排ガス処理装置
11類
排ガス処理装置 産業用排ガス処理装置
09A06(第7類) 09A68(第7類) 09A06(第11類) 09A99(第11類) 09E11(第11類) 続く

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