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SHIMADZU CORPORATION商標一覧

2024年11月22日更新

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商標ランキング2012年 89位(24件)  前年 110位(12件)
総区分数34区分1商標あたりの平均区分数1.42区分
類似群コード最頻出10C01 (出現率71%)区分組み合わせ最頻出区分組み合せマップ7類 & 1類 他... (出現率4%)
指定商品・指定役務総数2471商標あたりの平均数10
称呼パターン 称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭2音 組み合わせ 1位エス (出現率17%)
2位エム (出現率13%)
称呼傾向マップ(先頭末尾) 先頭末尾音 組み合せ 1位エス (出現率29%)
2位クボ (出現率8%) 他

SHIMADZU CORPORATION2012年の商標登録

24件
直近の商標登録(2024年11月22日発行公報):商標登録 0件 総区分数 0 指定商品・指定役務数 0詳細
番号・日付 商標 称呼 区分
指定商品・指定役務
類似群コード
登録5509908
登録日:2012年7月27日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2011年11月25日
商願2011-84809
商標登録5509908
クレアビーボオプトプラス
クレールビーボオプトプラス
クレアビボオプトプラス
クレールビボオプトプラス
クレアバイボオプトプラス
続く…
9類
蛍光試薬を用いた科学・実験・研究用分子イメージング装置 科学・実験・研究用生体イメージング装置 理化学機械器具 測定機械器具 蛍光試薬を用いた分子イメージング装置用コンピュータソフトウェア 続く…
10A01(第9類) 10C01(第9類) 11C01(第9類) 11C02(第9類)
登録5509907
登録日:2012年7月27日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2011年11月25日
商願2011-84808
商標登録5509907
クレアビーボ
クレールビーボ
クレアビボ
クレールビボ
クレアバイボ
続く…
9類
蛍光試薬を用いた科学・実験・研究用分子イメージング装置 科学・実験・研究用生体イメージング装置 理化学機械器具 測定機械器具 蛍光試薬を用いた分子イメージング装置用コンピュータソフトウェア 続く…
10A01(第9類) 10C01(第9類) 11C01(第9類) 11C02(第9類)
登録5509905
登録日:2012年7月27日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日:2011年8月4日
商願2011-55604
商標登録5509905
シイデイウエル
ウエル
9類
微量血漿中放射能濃度測定装置 微量血漿中放射能濃度測定に用いる容器 理化学機械器具 測定機械器具 電子応用機械器具及びその部品
10A01(第9類) 10C01(第9類) 11C01(第9類) 11C02(第9類)
登録5509904
登録日:2012年7月27日
商標ランキング 出願から11ヵ月
出願日:2011年8月4日
商願2011-55603
商標登録5509904
ミューエフエムピイシイ
ミューエフエム
ミュー
エフエムピイシイ
9類
微量血漿中放射能濃度測定装置 微量血漿中放射能濃度測定に用いる容器 理化学機械器具 測定機械器具 電子応用機械器具及びその部品
10A01(第9類) 10C01(第9類) 11C01(第9類) 11C02(第9類)
登録5505226
登録日:2012年7月6日
商標ランキング 出願から6ヵ月
出願日:2012年1月26日
商願2012-4718
商標登録5505226
トリニアス
トライニアス
10類
血管撮影装置およびその他の医療用機械器具
10D01(第10類) 10D02(第10類)
登録5500339
登録日:2012年6月15日
商標ランキング 出願から7ヵ月
出願日:2011年11月30日
商願2011-85842
商標登録5500339
シマズディフラクショングレーティングインサイド
シマズディフラクショングレーティング
シマズ
ディフラクショングレーティングインサイド
ディフラクショングレーティング
続く…
9類
回折格子 光学機械器具 写真機械器具 映画機械器具 分光光度計 続く…
10A01(第9類) 10B01(第9類) 10C01(第9類)
登録5491549
登録日:2012年5月11日
商標ランキング 出願から5ヵ月
出願日:2011年12月6日
商願2011-87396
商標登録5491549
シンクトラックス
10類
放射線治療装置用シンクロナイザ 放射線治療装置 その他の医療用機械器具
10D01(第10類) 10D02(第10類)
登録5489198
登録日:2012年4月27日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2011年8月4日
商願2011-55602
商標登録5489198
エムシイエックスエル
7類
太陽電池反射防止膜成膜装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜形成装置 半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 半導体製造装置
09A68(第7類)
登録5489197
登録日:2012年4月27日
商標ランキング 出願から8ヵ月
出願日:2011年8月4日
商願2011-55601
商標登録5489197
エムシイエックスエス
7類
太陽電池反射防止膜成膜装置 半導体製造用の化学蒸着法による薄膜形成装置 半導体・金属・絶縁体等の薄膜形成装置 半導体製造装置
09A68(第7類)
登録5481951
登録日:2012年3月30日
商標ランキング 出願から6ヵ月
出願日:2011年9月14日
商願2011-66186
商標登録5481951
ユウエフアミノ
9類
液体クロマトグラフ質量分析装置を用いたアミノ酸分析装置 液体クロマトグラフ質量分析装置 液体クロマトグラフ装置 液体クロマトグラフィー用カラム 理化学機械器具 続く…
10A01(第9類) 10C01(第9類) 11C01(第9類) 11C02(第9類)

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