特開2015-11756(P2015-11756A)IP Force 特許公報掲載プロジェクト 2022.1.31 β版

知財求人 - 知財ポータルサイト「IP Force」

▶ シーゲイト テクノロジー エルエルシーの特許一覧

特開2015-11756接着機能部の最も近くにおいて光の吸収を向上させるように構成されたサブマウント層